[實用新型]用于真空鍍膜的磁導向裝置有效

申請號：	201320747610.9	申請日：	2013-11-25
公開（公告）號：	CN203593783U	公開（公告）日：	2014-05-14
發明（設計）人：	汪奇;陶道昌	申請（專利權）人：	安徽今上顯示玻璃有限公司
主分類號：	C23C14/50	分類號：	C23C14/50;C23C14/56
代理公司：	上海翼勝專利商標事務所(普通合伙) 31218	代理人：	翟羽
地址：	233000 安徽省***	國省代碼：	安徽;34
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摘要：
搜索關鍵詞：	用于真空鍍膜導向裝置
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【權利要求書】：

1.一種用于真空鍍膜的磁導向裝置，包括磁導軌座、傳送構件及傳送座，所述磁導軌座安裝在真空鍍膜箱的頂板上，所述傳送構件一端朝向所述磁導軌座并與所述磁導軌座有一距離，另一端與所述傳送座相連，所述傳送座用于驅動傳送構件運動，其特征在于，所述磁導軌座朝向傳送構件的一端設置有第一磁導向單元，所述傳送構件朝向所述磁導軌座的一端設置有一第二磁導向單元，所述第一磁導向單元與所述第二磁導向單元相對的側面極性相反。

2.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，所述磁導軌座通過一磁導軌座固定裝置與所述真空鍍膜箱的頂板相連。

3.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，所述磁導軌座軸向中心與所述傳送構件的軸向中心在同一平面內。

4.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，所述第一磁導向單元通過一壓條固定在所述磁導軌座內。

5.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，所述第二磁導向單元通過一壓條固定在所述傳送構件內。

6.根據權利要求1所述的用于真空鍍膜的磁導向裝置，其特征在于，所述傳送構件通過一滾輪與所述傳送座相連，所述傳送座施加給傳送構件一滑動摩擦力。

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