[實用新型]壓力測量裝置以及壓力測量組件

有效

• 申請號: 201320727703.5
• 申請日: 2013-11-18
• 公開（公告）號: CN203561474U
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 王盟;孟現珂;陳耀東
• 申請（專利權）人: 國核（北京）科學技術研究院有限公司
• 主分類號: G01L7/18
• 分類號: G01L7/18
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 湯雄軍

技術領域

本實用新型涉及壓力測量，尤其是涉及高溫熔鹽回路的壓力測量。

背景技術

熔鹽反應堆(MSR)作為第四代堆的六種堆型之一，其冷卻劑甚至是燃料本身皆是熔鹽混和物。在許多設計方案中，最為推崇的是核燃料溶于熔融的氟鹽冷卻劑中。氟鹽的工作壓力較低，一般稍高于1個大氣壓，工作溫度高達800℃，但其熔點在450℃左右，而且高溫氟鹽具有很強的腐蝕性，為管道測壓帶來很大的困難。

現有壓力傳感器一般采用金屬膜片作為感應元件，在如此高的溫度，而且有很強的腐蝕性，感應元件受到腐蝕并伴有熱應力，使其無法正常工作。同時普通壓力傳感器要求有取壓管，如果不加防護措施，將造成熔鹽的凝固。即使感應元件可以與工作環境適應，其傳導介質(硅油或其它油)最高耐溫僅310℃，無法完成高溫熔鹽的壓力測量。

在金屬鈉回路壓力測量方面，專利CN102435381A進行了有關的探討，其壓力感受部件依然采用應變片，無法適用于高溫腐蝕性熔鹽環境。

專利CN101750181A進行了有關高溫熔鹽壓力測量的探討，但其使用溫度不高于450℃，而且由于腐蝕和熱應力的原因，隔膜膜片結構不宜在氟鹽環境下使用。

實用新型內容

為解決壓力感受部件熱應力和腐蝕的問題，實現例如高溫腐蝕性熔鹽回路的壓力測量，提出本實用新型。

本實用新型提供了一種壓力測量裝置，包括：引壓管，引壓管的一端延伸到待測空間內而限定引壓點，引壓管的另一端封閉且位于待測空間外，待測空間內容納液體；液柱高度測量器，構造成測量引壓管內從引壓點到引壓管內的液面的液柱高度；氣體引入管，構造成將氣體引入到引壓管的另一端內；以及壓力傳感器，構造成測量引壓管內的氣體壓力。

可選地，引壓管的下端延伸到待測空間內而限定引壓點，引壓管的上端封閉且位于待測空間外；氣體引入管構造成將氣體引入到所述引壓管內的液面上方。

可選地，引壓管的上端延伸到待測空間內而限定引壓點，引壓管的下端封閉且位于待測空間外；氣體引入管構造成將氣體引入到所述引壓管內的液面下方。

可選地，所述待測空間為熔鹽反應堆中使用的熔鹽回路。進一步的，所述氣體引入管與氣源相通，且引入到引壓管內的氣體壓力是能夠調節的。

可選地，所述引壓管具有直徑擴大部，所述液面位于所述直徑擴大部處。

可選地，所述壓力測量裝置還包括保溫層，圍繞位于待測空間外部的引壓管設置。

上述壓力測量裝置中，可選地，所述液柱高度測量器包括沿液柱高度方向依次布置的多對光發射端和光接收端，每一對中的光發射端和光接收端沿引壓管的徑向方向彼此水平相對，每一對中從光發射端發出的光被光接收端接收。進一步的，每一個光發射端和每一個光接收端均包括光纖和設置在光纖外部的套管；引壓管的管壁上設置有與光發射端和光接收端對應的多個通孔，套管設置在對應的通孔內；且每一個套管在其所安裝的通孔的徑向外端附近與引壓管的管壁焊接?；蛘呖蛇x地，所述液柱高度測量器包括設置在所述引壓管的所述另一端的端壁的內壁上的發射端和接收端，光或者超聲波從所述發射端朝向所述液面出射，由所述液面反射而進入所述光接收端。

可選地，上述壓力測量裝置還包括：直通終端接頭，設置在待測空間的壁面上的安裝孔中，所述引壓管的所述一端穿過所述直通終端接頭而進入到所述待測空間內。進一步地，所述引壓管適于改變延伸到所述待測空間內的深度。

本實用新型還提出一種壓力測量系統，包括多個上述的壓力測量裝置，其中多個壓力測量裝置中的兩個壓力測量裝置的引壓點分別位于引壓管的內壁表面處以及引壓管的管道中心。

本實用新型的技術方案中，由于使用了氣體進行壓力傳導，在氣體不與壓力待測液體發生反應的情況下，解決了傳導介質耐高溫且不與壓力待測液體發生化學反應的問題。

附圖說明

圖1是根據本實用新型的一個示例性實施例的壓力測量裝置的結構示意圖；

圖2是根據本實用新型的一個示例性實施例的壓力測量裝置的局部放大示意圖。

具體實施方式

下面詳細描述本實用新型的實例性的實施例，實施例的示例在附圖中示出，其中相同或相似的標號表示相同或相似的元件。下面參考附圖描述的實施例是示例性的，旨在解釋本實用新型，而不能解釋為對本實用新型的限制。

如圖1-2所示，本實用新型提供了一種壓力測量裝置，包括：

引壓管1，引壓管1的一端延伸到待測空間內而限定引壓點A，引壓管的另一端封閉且位于待測空間S外，待測空間S內容納液體；