[實用新型]壓力測量裝置以及壓力測量組件

有效

• 申請號: 201320727703.5
• 申請日: 2013-11-18
• 公開（公告）號: CN203561474U
• 公開（公告）日: 2014-04-23
• 發明（設計）人: 王盟;孟現珂;陳耀東
• 申請（專利權）人: 國核（北京）科學技術研究院有限公司
• 主分類號: G01L7/18
• 分類號: G01L7/18
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 湯雄軍

1.一種壓力測量裝置，其特征在于，包括：

引壓管，引壓管的一端延伸到待測空間內而限定引壓點，引壓管的另一端封閉且位于待測空間外，待測空間內容納液體；

液柱高度測量器，構造成測量引壓管內從引壓點到引壓管內的液面的液柱高度；

氣體引入管，構造成將氣體引入到引壓管的另一端內；以及

壓力傳感器，構造成測量引壓管內的氣體壓力。

2.根據權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于：

引壓管的下端延伸到待測空間內而限定引壓點，引壓管的上端封閉且位于待測空間外；

氣體引入管構造成將氣體引入到所述引壓管內的液面上方。

3.根據權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于：

引壓管的上端延伸到待測空間內而限定引壓點，引壓管的下端封閉且位于待測空間外；

氣體引入管構造成將氣體引入到所述引壓管內的液面下方。

4.根據權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于：

所述待測空間為熔鹽反應堆中使用的熔鹽回路。

5.根據權利要求4所述的壓力測量裝置，其特征在于：

所述氣體引入管與氣源相通，且引入到引壓管內的氣體壓力是能夠調節的。

6.根據權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于：

所述引壓管具有直徑擴大部，所述液面位于所述直徑擴大部處。

7.根據權利要求1所述的壓力測量裝置，其特征在于，還包括：

保溫層，圍繞位于待測空間外部的引壓管設置。

8.根據權利要求1-7中任一項所述的壓力測量裝置，其特征在于：

所述液柱高度測量器包括沿液柱高度方向依次布置的多對光發射端和光接收端，每一對中的光發射端和光接收端沿引壓管的徑向方向彼此水平相對，每一對中從光發射端發出的光被光接收端接收。

9.根據權利要求8所述的壓力測量裝置，其特征在于：

每一個光發射端和每一個光接收端均包括光纖和設置在光纖外部的套管；

引壓管的管壁上設置有與光發射端和光接收端對應的多個通孔，套管設置在對應的通孔內；且

每一個套管在其所安裝的通孔的徑向外端附近與引壓管的管壁焊接。

10.根據權利要求8所述的壓力測量裝置，其特征在于：

所述液柱高度測量器包括設置在所述引壓管的所述另一端的端壁的內壁上的發射端和接收端，光或者超聲波從所述發射端朝向所述液面出射，由所述液面反射而進入所述光接收端。

11.根據權利要求1-7中任一項所述的壓力測量裝置，其特征在于，還包括：

直通終端接頭，設置在待測空間的壁面上的安裝孔中，所述引壓管的所述一端穿過所述直通終端接頭而進入到所述待測空間內。

12.根據權利要求11所述的壓力測量裝置，其特征在于：

所述引壓管適于改變延伸到所述待測空間內的深度。

13.一種壓力測量系統，其特征在于，包括多個根據權利要求1-12中任一項所述的壓力測量裝置，其中多個壓力測量裝置中的兩個壓力測量裝置的引壓點分別位于引壓管的內壁表面處以及引壓管的管道中心。