[實(shí)用新型]基板顯影處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201320713736.4
• 申請日: 2013-11-13
• 公開（公告）號: CN203595896U
• 公開（公告）日: 2014-05-14
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 龔金金;朱棋鋒;張為騰;吳康成
• 申請（專利權(quán)）人: 上海和輝光電有限公司
• 主分類號: G03F7/30
• 分類號: G03F7/30
• 代理公司: 上海唯源專利代理有限公司 31229
• 代理人: 曾耀先

1.一種基板顯影處理裝置，其特征在于主要包括：

基座；

滾輪組，安裝于所述基座上，所述滾輪組包括互相平行并且沿水平方向一字排列的復(fù)數(shù)個滾輪；

與所述滾輪組連接、用于驅(qū)動所述滾輪組中的滾輪轉(zhuǎn)動的滾輪組驅(qū)動裝置；

擋塊，位于滾輪組兩端；

設(shè)置于基座上、用于感應(yīng)基板位置以供所述滾輪組驅(qū)動裝置據(jù)此控制所述滾輪組轉(zhuǎn)動方式的基板位置傳感器。

2.如權(quán)利要求1所述的基板顯影處理裝置，其特征在于：所述擋塊下方設(shè)置有擋塊升降機(jī)構(gòu)。

3.如權(quán)利要求1所述的基板顯影處理裝置，其特征在于：所述滾輪組中的滾輪包括復(fù)數(shù)個傳動滾輪，所述傳動滾輪的一側(cè)設(shè)置有端部齒輪，所述傳動滾輪和所述滾輪組驅(qū)動裝置通過齒輪傳動連接，所述滾輪組中的傳動滾輪的滾輪直徑相同，在運(yùn)動時所述滾輪組中的傳動滾輪沿相同方向、相同轉(zhuǎn)速繞其軸線轉(zhuǎn)動。

4.如權(quán)利要求3所述的基板顯影處理裝置，其特征在于所述滾輪組中的滾輪還包括復(fù)數(shù)個自由滾輪，所述自由滾輪間隔地排列在滾輪之間。

5.如權(quán)利要求4所述的基板顯影處理裝置，其特征在于所述滾輪組中的滾輪的直徑與自由滾輪的直徑相同。