[實用新型]基板顯影處理裝置有效
| 申請號： | 201320713736.4 | 申請日： | 2013-11-13 |
| 公開（公告）號： | CN203595896U | 公開（公告）日： | 2014-05-14 |
| 發明（設計）人： | 龔金金;朱棋鋒;張為騰;吳康成 | 申請（專利權）人： | 上海和輝光電有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/30 | 分類號： | G03F7/30 |
| 代理公司： | 上海唯源專利代理有限公司 31229 | 代理人： | 曾耀先 |
| 地址： | 201508 上海市金山區*** | 國省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 顯影 處理 裝置 | ||
【權利要求書】：
1.一種基板顯影處理裝置，其特征在于主要包括：
基座；
滾輪組，安裝于所述基座上，所述滾輪組包括互相平行并且沿水平方向一字排列的復數個滾輪；
與所述滾輪組連接、用于驅動所述滾輪組中的滾輪轉動的滾輪組驅動裝置；
擋塊，位于滾輪組兩端；
設置于基座上、用于感應基板位置以供所述滾輪組驅動裝置據此控制所述滾輪組轉動方式的基板位置傳感器。
2.如權利要求1所述的基板顯影處理裝置，其特征在于：所述擋塊下方設置有擋塊升降機構。
3.如權利要求1所述的基板顯影處理裝置，其特征在于：所述滾輪組中的滾輪包括復數個傳動滾輪，所述傳動滾輪的一側設置有端部齒輪，所述傳動滾輪和所述滾輪組驅動裝置通過齒輪傳動連接，所述滾輪組中的傳動滾輪的滾輪直徑相同，在運動時所述滾輪組中的傳動滾輪沿相同方向、相同轉速繞其軸線轉動。
4.如權利要求3所述的基板顯影處理裝置，其特征在于所述滾輪組中的滾輪還包括復數個自由滾輪，所述自由滾輪間隔地排列在滾輪之間。
5.如權利要求4所述的基板顯影處理裝置，其特征在于所述滾輪組中的滾輪的直徑與自由滾輪的直徑相同。
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