[實用新型]一種擋板及磁控濺射鍍膜設備有效
| 申請號: | 201320693931.5 | 申請日: | 2013-11-05 |
| 公開(公告)號: | CN203530420U | 公開(公告)日: | 2014-04-09 |
| 發明(設計)人: | 彭柱根;伍能;羅洪娜;李先林;王策 | 申請(專利權)人: | 海南漢能光伏有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/35 | 分類號: | C23C14/35 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
| 地址: | 570125 海南省???** | 國省代碼: | 海南;66 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 擋板 磁控濺射 鍍膜 設備 | ||
技術領域
本實用新型涉及磁控濺射技術領域,更具體地說,涉及一種擋板及磁控濺射鍍膜設備。
背景技術
磁控濺射一種常用的物理氣相沉積方法,在現代工業鍍膜中被廣泛采用。
磁控濺射鍍膜設備包括:真空室、真空系統,陰極靶材、濺射電源、進氣系統及擋板等。進行鍍膜時,利用真空系統將真空室中的氣體抽出,是真空室內氣壓達到規定的真空要求,然后利用進氣系統向真空室內充入氬氣,之后利用濺射電源給真空室內的氬氣加上高壓,使陰陽極間產生輝光放電,極間氬氣分子被離子化而產生帶電電荷,其中的正離子受陰極負電位的影響加速運動而撞擊陰極靶材上,從而將其中的原子等粒子濺出,濺出的原子則沉積于位于陽極的基板上而形成薄膜。
薄膜光伏組件的制作應用了磁控濺射鍍膜技術。在制作薄膜光伏組件的過程中,首先利用PECVD(Plasma?Enhanced?Chemical?Vapor?Deposition,等離子體增強化學氣相淀積)工藝在TCO玻璃(Transparent?Conducting?Oxide,透明導電氧化物鍍膜玻璃)基板的鍍膜面上鍍一層硅層,然后利用磁控濺射技術在硅層上鍍背電極。如圖1所示,玻璃基板101鍍膜面朝向靶材(即背電極材料)103,沿方向aa’傳動至靶材103的下方,被逐步濺射鍍上被電極材料,為一平面板結構的擋板102設置于靶材103的正下方,用于遮擋不會濺射到玻璃基板101上的濺射粒子。
但是,在背電極的實際鍍膜過程中發現,鍍膜會產生繞鍍現象,即濺射粒子不僅會沉積在玻璃基板101的鍍膜面上,還會沉積到玻璃基板101的受光面(即玻璃基板101背向靶材103的一面)上。繞鍍會使光線透過率下降,進而造成薄膜光伏組件的光電轉換效率降低,并且會對后續激光掃邊工序產生不良影響。
實用新型內容
本實用新型提供了一種擋板及磁控濺射鍍膜設備,以減少薄膜光伏組件鍍背電極過程中的繞鍍現象,提高薄膜光伏組件的光電轉換效率,為鍍背電極的后道工序提供良好的基礎。
為實現上述目的,本實用新型提供了如下技術方案:
一種擋板,包括:基板,所述基板為一矩形的平面板;設置于所述基板上的多個遮板,所述多個遮板為形狀和尺寸均相同的矩形的平面板,所述多個遮板均垂直于所述基板,且平行于所述基板一組相對的側面,所述多個遮板的長度均等于所述多個遮板所平行于的、基板的一組相對的側面的長度,相鄰兩個所述遮板之間的間距相等。
優選的,所述多個遮板的高度均為25~50mm,包括端點值。
優選的,所述多個遮板的高度均為30mm。
優選的,相鄰兩個所述遮板之間的間距為3~10mm,包括端點值。
優選的,相鄰兩個所述遮板之間的間距為7mm,包括端點值。
優選的,所述擋板還包括:與所述多個遮板一一對應的多個連接部,所述多個連接部均為條狀結構,且長度均與所述遮板的長度相等,相對應的所述連接部與所述遮板為一體結構,且呈L型,所述遮板通過貫穿所述連接部的螺栓固定于所述基板上。
本實用新型還提供了一種磁控濺射鍍膜設備,所述磁控濺射鍍膜設備的擋板為以上任一項所述的擋板。
與現有技術相比,本實用新型所提供的技術方案至少具有以下優點:
本實用新型所提供的擋板及磁控濺射鍍膜設備,通過在基板上垂直設置多個遮板,并使多個遮板均勻且平行的分布。在濺射鍍膜時,使玻璃基板垂直于遮板運行,擋板的基板反射的粒子、運動到擋板區域內的散射粒子和擋板的基板被濺射出來的粒子大部分由于被遮板阻擋,無法穿越擋板,因此不能沉積到玻璃基板的受光面上,從而減少了薄膜光伏組件鍍背電極過程中的繞鍍現象,提高了玻璃基板的透光率,進而提高了光伏組件的光電轉換效率,并且,由于玻璃基板的受光面上沉積的材料極大減少,因此也為激光掃邊等后道工序提供了良好的基礎。
附圖說明
為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案,下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本實用新型的一些實施例,對于本領域普通技術人員來講,在不付出創造性勞動的前提下,還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為現有技術中進行薄膜光伏組件背電極鍍膜的示意圖;
圖2為本實用新型實施例所提供的擋板的俯視圖;
圖3為本實用新型實施例所提供的擋板沿AA’的剖面圖;
圖4為本實用新型實施例所提供的磁控濺射鍍膜設備進行薄膜光伏組件背電極鍍膜的示意圖。
具體實施方式
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