[實用新型]缺陷深度的射線檢測裝置

有效

• 申請號: 201320662390.X
• 申請日: 2013-10-25
• 公開（公告）號: CN203629549U
• 公開（公告）日: 2014-06-04
• 發明（設計）人: 王華成
• 申請（專利權）人: 東方電氣（武漢）核設備有限公司
• 主分類號: G01B15/00
• 分類號: G01B15/00
• 代理公司: 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102
• 代理人: 鄔麗明

技術領域

本實用新型涉及一種檢測裝置，尤其涉及一種缺陷深度的射線檢測裝置。

背景技術

射線檢測方法是一種內部缺陷的非破壞檢測方法。射線檢測直觀，能夠準確的檢測出缺陷的位置和大小，從而能夠準確的確定缺陷的性質和水平方向的位置。然而，射線檢測不能檢測缺陷的深度。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是：提供一種簡單、快速、準確的缺陷深度的射線檢測裝置。

本實用新型為解決上述技術問題所采取的技術方案為：

缺陷深度的射線檢測裝置，其特征在于，它包括：

放射源，其位于待檢測物的第一表面側，用于發射射線；

準直器，其設置在所述放射源的射線路徑上；

顯像單元，其位于所述待檢測物的第二表面側，用于接收經過該準直器且透射過所述待檢測物的射線，以顯示所述待檢測物的缺陷在所述顯像單元上的位置，所述待檢測物的第一表面與第二表面相對；

所述放射源位于第一位置處發射出第一射線，所述第一射線通過該準直器后透射過所述待檢測物在所述顯像單元上形成第一缺陷位置，所述放射源位于第二位置處發射出第二射線，所述第二射線通過該準直器后透射過所述待檢測物在所述顯像單元上形成第二缺陷位置，所述放射源在所述第一位置處發出的第一射線垂直于所述待檢測物的第一表面，所述放射源在所述第二位置處發出的第二射線相對于所述待檢測物的第一表面傾斜，所述第一位置與所述第二位置在同一水平面上。

上述方案中，所述放射源為X射線。

上述方案中，所述待檢測物的第一表面為平面。

上述方案中，所述待檢測物的第二表面為平面。

與現有技術相比，本實用新型取得的技術效果是：

本實用新型提供的缺陷深度的射線檢測裝置是通過將所述放射源放置在兩個不同的位置發射射線，并通過計算從而得出缺陷的深度。所述缺陷深度的射線檢測裝置結構簡單，測量方便。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例提供的缺陷深度的射線檢測裝置在使用時的剖面示意圖。

圖2為圖1中的各參數之間的關系圖。

圖中：100-射線檢測定位缺陷深度的裝置，10-待檢測物，11-缺陷，12-第一表面，13-第二表面，20-放射源，21-第一位置，22-第二位置，30-顯像單元，31-第一缺陷位置，32-第二缺陷位置,?40-準直器，t-待檢測物的厚度，D-缺陷的深度，α-第一缺陷位置與第二缺陷位置之間的距離，L-第一位置與第二位置之間的距離，h-第一位置與顯像單元之間的距離，x-缺陷與顯像單元之間的距離。

具體實施方式

下面結合附圖和實施例對本實用新型作進一步的描述，當然下述實施例不應理解為對本實用新型的限制。

參見圖1，本實用新型實施方式提供的射缺陷深度的射線檢測裝置100，其用于檢測待檢測物10的缺陷11的深度D。所述待檢測物10具有一個第一表面12以及與其相對的第二表面13。所述待檢測物10的第一表面12與第二表面13均為平面，所述待檢測物10的厚度為t。

所述缺陷深度的射線檢測裝置100包括放射源20、顯像單元30以及準直器40。

所述放射源20位于所述待檢測物10的第一表面12側，用于發射射線。在本實施例中，所述放射源20為X射線。

該準直器40設置在該放射源20的射線路徑上。在本實施例中，該準直器40為X射線準直器。

所述顯像單元30位于所述待檢測物10的第二表面13側。所述顯像單元30用于接收經過該準直器40且透射過所述待檢測物10的射線，以顯示所述待檢測物10的缺陷11在所述顯像單元30上的位置。