[實用新型]缺陷深度的射線檢測裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320662390.X | 申請日： | 2013-10-25 |
| 公開（公告）號： | CN203629549U | 公開（公告）日： | 2014-06-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王華成 | 申請（專利權(quán)）人： | 東方電氣（武漢）核設(shè)備有限公司 |
| 主分類號： | G01B15/00 | 分類號： | G01B15/00 |
| 代理公司： | 湖北武漢永嘉專利代理有限公司 42102 | 代理人： | 鄔麗明 |
| 地址： | 430223 湖北省武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 缺陷 深度 射線 檢測 裝置 | ||
1.缺陷深度的射線檢測裝置，其特征在于，它包括：
放射源，其位于待檢測物的第一表面?zhèn)龋糜诎l(fā)射射線；
準直器，其設(shè)置在所述放射源的射線路徑上；
顯像單元，其位于所述待檢測物的第二表面?zhèn)龋糜诮邮战?jīng)過該準直器且透射過所述待檢測物的射線，以顯示所述待檢測物的缺陷在所述顯像單元上的位置，所述待檢測物的第一表面與第二表面相對；
所述放射源位于第一位置處發(fā)射出第一射線，所述第一射線通過該準直器后透射過所述待檢測物在所述顯像單元上形成第一缺陷位置，所述放射源位于第二位置處發(fā)射出第二射線，所述第二射線通過該準直器后透射過所述待檢測物在所述顯像單元上形成第二缺陷位置，所述放射源在所述第一位置處發(fā)出的第一射線垂直于所述待檢測物的第一表面，所述放射源在所述第二位置處發(fā)出的第二射線相對于所述待檢測物的第一表面傾斜，所述第一位置與所述第二位置在同一水平面上。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線檢測定位缺陷深度的裝置，其特征在于，所述放射源為X射線。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線檢測定位缺陷深度的裝置，其特征在于，所述待檢測物的第一表面為平面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的射線檢測定位缺陷深度的裝置，其特征在于，所述待檢測物的第二表面為平面。
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