[實(shí)用新型]一種線性蒸發(fā)源以及蒸鍍設(shè)備

有效

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• 申請日: 2013-10-15
• 公開（公告）號: CN203546136U
• 公開（公告）日: 2014-04-16
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 蘇志瑋;王演隆
• 申請（專利權(quán)）人: 上海和輝光電有限公司
• 主分類號: C23C14/24
• 分類號: C23C14/24
• 代理公司: 隆天國際知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 72003
• 代理人: 黃嵩泉;呂俊清

1.一種線性蒸發(fā)源，包括：?

固定塊；?

坩鍋，所述坩鍋固定于所述固定塊之間，其內(nèi)部裝有有機(jī)材料，對待加工基板進(jìn)行鍍膜；?

坩鍋斷熱塊，所述坩鍋斷熱塊位于所述坩鍋的兩側(cè)；?

側(cè)蓋板，所述側(cè)蓋板位于所述坩鍋斷熱塊的外側(cè)；?

其特征在于，所述坩鍋斷熱塊上設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)向栓，所述坩鍋的側(cè)面設(shè)有與所述導(dǎo)向栓數(shù)量相同且位置對應(yīng)的鉆孔，運(yùn)行時(shí)，每根所述導(dǎo)向栓均插入相對應(yīng)的所述鉆孔內(nèi)，所述側(cè)蓋板裝于所述線性蒸發(fā)源的最外側(cè)。?

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有至少一個(gè)導(dǎo)向栓，且兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的數(shù)量相同。?

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置沿所述坩鍋的中心線左右對稱。?

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有一個(gè)導(dǎo)向栓，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊對應(yīng)地設(shè)有一鉆孔。?

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有兩個(gè)導(dǎo)向栓，兩個(gè)所述導(dǎo)向栓上下設(shè)置，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上兩個(gè)所述導(dǎo)向栓對應(yīng)地設(shè)有兩個(gè)鉆孔。?

6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一側(cè)的兩個(gè)所述導(dǎo)向栓之間的距離為2mm。?

7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一側(cè)的兩個(gè)所述導(dǎo)向栓之間的距離為6mm。?

8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有三個(gè)導(dǎo)向栓，三個(gè)導(dǎo)向栓上下設(shè)置，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上的三個(gè)所述導(dǎo)向栓對應(yīng)地設(shè)有三個(gè)鉆孔。?

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一側(cè)的兩個(gè)相鄰?的所述導(dǎo)向栓之間的距離均為2mm。?

10.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的位置不沿所述坩鍋的中心線左右對稱。?

11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上各設(shè)有兩個(gè)導(dǎo)向栓，相應(yīng)地，所述坩鍋上與所述坩鍋斷熱塊上對應(yīng)地設(shè)有兩個(gè)鉆孔，其中，一側(cè)的兩個(gè)所述導(dǎo)向栓之間的距離為2mm，另一側(cè)的兩個(gè)導(dǎo)向栓之間的距離為6mm。?

12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，兩側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置的導(dǎo)向栓的數(shù)量不相同。?

13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置一個(gè)導(dǎo)向栓，另一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個(gè)導(dǎo)向栓。?

14.根據(jù)權(quán)利要求12所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置兩個(gè)導(dǎo)向栓，另一側(cè)的所述坩鍋斷熱塊上設(shè)置三個(gè)導(dǎo)向栓。?

15.根據(jù)權(quán)利要求1至14中任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個(gè)與所述鉆孔相對所述導(dǎo)向栓的縱截面的形狀為圓形、矩形、正方形、三角形、橢圓形或梯形中的任一種，相應(yīng)地，每個(gè)所述鉆孔的縱截面形狀與每個(gè)對應(yīng)的所述導(dǎo)向栓的縱截面形狀相同。?

16.根據(jù)權(quán)利要求15所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個(gè)與所述鉆孔相對的所述導(dǎo)向栓的縱截面的形狀均相同。?

17.根據(jù)權(quán)利要求15所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個(gè)所述導(dǎo)向栓的長度相同。?

18.根據(jù)權(quán)利要求17所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個(gè)所述導(dǎo)向栓的長度為4mm，其深入所述坩鍋斷熱塊部分的長度為1mm，所述鉆孔的深度為3mm。?

19.根據(jù)權(quán)利要求15所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每個(gè)與所述鉆孔相對所述導(dǎo)向栓的縱截面的面積都相同。?

20.一種蒸鍍設(shè)備，其包括：?

腔體；?

鍍膜傘架，所述鍍膜傘架位于所述腔體的頂部，固定待鍍膜的基板；?

其特征在于，還包括：?

根據(jù)權(quán)利1至19中任一項(xiàng)所述的線性蒸發(fā)源，所述線性蒸發(fā)源位于所述鍍膜傘架的下方，其裝有有機(jī)材料，對待鍍膜基板進(jìn)行加工。?