[實用新型]抗反射膜、使用其的光學部件和光學儀器

有效

• 申請號: 201320569682.9
• 申請日: 2013-09-13
• 公開（公告）號: CN203643625U
• 公開（公告）日: 2014-06-11
• 發明（設計）人: 藤井秀雄;竹友裕樹
• 申請（專利權）人: 理光映像有限公司
• 主分類號: G02B1/11
• 分類號: G02B1/11
• 代理公司: 北京戈程知識產權代理有限公司 11314
• 代理人: 程偉;唐瑞庭

1.一種抗反射膜，其特征在于，其為在基材的表面上從上述基材側順序層壓第1層～第9層而形成的抗反射膜，第2層、第4層、第6層和第8層為由對于波長587.56nm的He光源的d線呈現2.21以上且2.70以下的折射率的高折射率材料形成的高折射率層，第1層、第3層、第5層和第7層為由對于上述d線呈現1.40以上且不足1.55的折射率的中間折射率材料形成的中間折射率層，第9層為由對于上述d線呈現1.35以上且不足1.40的折射率的低折射率材料形成的低折射率層，所述抗反射膜對于可見區的波長范圍390～720nm的光的反射率在0.2%以下。?

2.根據權利要求1所述的抗反射膜，其特征在于，上述中間折射率層和上述高折射率層之間的折射率差為0.67～1.30。?

3.根據權利要求1或2所述的抗反射膜，其特征在于，上述基材對于上述d線具有1.40～2.10的折射率。?

4.一種抗反射膜，其特征在于，其為在對于波長587.56nm的He光源的d線的折射率為1.43～1.73的光學基材的表面上，從上述基材側順序層壓第1層～第7層而形成的抗反射膜，?

上述第1層對于上述d線的折射率為1.37～1.56，光學膜厚為230～290nm，?

上述第2層對于上述d線的折射率為1.85～2.7，光學膜厚為20～80nm，?

上述第3層對于上述d線的折射率為1.37～1.52，光學膜厚為10～60nm，?

上述第4層對于上述d線的折射率為2.1～2.7，光學膜厚為130～220nm，?

上述第5層對于上述d線的折射率為1.37～1.52，光學膜厚為5～40nm，?

上述第6層對于上述d線的折射率為2.1～2.7，光學膜厚為20～90nm，?

上述第7層對于上述d線的折射率為1.37～1.4，光學膜厚為100～160nm，?

所述抗反射膜對于可見區的波長范圍390～720nm的光的反射率為0.2%以下。?

5.根據權利要求4所述的抗反射膜，其特征在于，上述第7層的折射率在上述第1層、上述第3層和上述第5層的折射率以下。?

6.一種抗反射膜，其特征在于，其為在對于波長587.56nm的He光源的d線的折射率為1.43～2.01的光學基材的表面上，從上述基材側順序層壓第1層～第14層而形成的抗反射膜，?

上述第1層、上述第3層、上述第5層、上述第7層、上述第9層、上述第11層和第13層為由對上述d線的折射率為2.201～2.7的高折射率材料形成的高折射率層，?

上述第2層、上述第4層、上述第6層、上述第8層、上述第10層和上述第12層為由對上述d線的折射率為1.501～1.7的中間折射率材料形成的中間折射率層，?

上述第14層為由對上述d線的折射率為1.37～1.44的低折射率材料形成的低折射率層，?

上述第1層的光學膜厚為5～45nm，?

上述第2層的光學膜厚為15～125nm，?

上述第3層的光學膜厚為40～130nm，?

上述第4層的光學膜厚為1～45nm，?

上述第5層的光學膜厚為135～175nm，?

上述第6層的光學膜厚為20～50nm，?

上述第7層的光學膜厚為30～65nm，?

上述第8層的光學膜厚為155～180nm，?

上述第9層的光學膜厚為10～35nm，?

上述第10層的光學膜厚為45～75nm，?

上述第11層的光學膜厚為147～170nm，?

上述第12層的光學膜厚為5～28nm，?

上述第13層的光學膜厚為55～85nm，?

上述第14層的光學膜厚為120～145nm。?

7.一種光學部件，其特征在于施用了根據權利要求1-6任一項所述的抗反射膜。?

8.一種光學儀器，其特征在于具有根據權利要求7所述的光學部件。?