[實用新型]抗反射膜、使用其的光學部件和光學儀器有效
| 申請號: | 201320569682.9 | 申請日: | 2013-09-13 |
| 公開(公告)號: | CN203643625U | 公開(公告)日: | 2014-06-11 |
| 發明(設計)人: | 藤井秀雄;竹友裕樹 | 申請(專利權)人: | 理光映像有限公司 |
| 主分類號: | G02B1/11 | 分類號: | G02B1/11 |
| 代理公司: | 北京戈程知識產權代理有限公司 11314 | 代理人: | 程偉;唐瑞庭 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 反射 使用 光學 部件 光學儀器 | ||
技術領域
本實用新型涉及在廣的波長范圍內具有低反射率的抗反射膜,使用其的透鏡、棱鏡、濾光器等的光學部件,以及具備所述光學部件的電視攝像機、攝像機、數碼相機、車載攝像機、顯微鏡、望遠鏡等的光學儀器。
背景技術
在照相用或播放用等中廣泛使用開來的單焦鏡頭或變焦鏡頭一般具有許多片透鏡構成的鏡筒結構,其透鏡的數目從約10片到約40片。
如果透鏡片數增加,則各透鏡表面的反射光的總量增加,并且由于其反射光反復多次反射,射入感光面,成為使得耀斑、重影等的光學特性顯著惡化的弊端發生的原因。因此,在這些透鏡的表面上形成多層抗反射膜,所述多層抗反射膜組合具有不同折射率的介電膜(誘電體膜),將各介電膜的光學膜厚設定為相對于中心波長λ為1/2λ或1/4λ,利用干涉效應的。
例如,特開2007-213021號公報(專利文獻1)公開有,含有在基板上設置的、從與基板相反側順序層壓的第1層~第8層的抗反射膜,其中第1層和第4層由對于波長587.56nm的d線呈現1.35~1.50的折射率的低折射率材料構成,第3層和第5層由對于d線呈現1.55~1.85的折射率的中間折射率材料構成,第2層和第6層由對于d線呈現在1.70~2.50的范圍內的、相較于上述中間折射率材料高的折射率的高折射率材料構成。該抗反射膜在約400~700nm的波長范圍中具有約0.15%以下的反射率。
特開2002-267801號公報(專利文獻2)公開有,在基板上,從該基板側順序施用由第1層~第9層的介電體形成的薄膜的抗反射膜,其中當將第2層、第4層、第6層、第8層的波長550nm處的折射率設定為Nh,將第1層、第3層、第5層、第7層的波長550nm處的折射率設定為Nm,第9層的波長550nm處的折射率設定為N1時,滿足2.00≦Nh≦2.20,1.50≦Nm≦1.80,Nl≦1.46。該抗反射膜在約400~680nm的波長范圍中具有約0.2%以下的反射率。
特開2002-107506號公報(專利文獻3)公開有,具有在基板上層壓的10層薄膜的設計波長λ0=550nm的抗反射膜,其中第2層、第4層、第6層、第9層對設計波長λ0的折射率在2.00以上,第1層和第7層對設計波長λ0的折射率在1.50~1.80的范圍內,第3層、第5層、第8層和第10層的對設計波長λ0的折射率在1.46以下。該抗反射膜在約400~710nm的波長范圍中具有約0.2%以下的反射率。
特開2001-100002號公報(專利文獻4)公開有,在基板上從該基板側順序施用由第1層~第10層的介電體形成的薄膜的抗反射膜,其中當將第2層、第4層、第6層和第9層的波長550nm處的折射率設定為Nh,將第1層和第8層的波長550nm處的折射率設定為Nm,第3層、第5層、第7層和第10層的波長550nm處的折射率設定為NL時,滿足2.0≦Nh,1.5≦Nm≦1.8,NL≦1.46。該抗反射膜在約410~690nm的波長范圍中具有約0.2%以下的反射率。
然而,這些抗反射膜具有在通常稱為可見區的波長范圍380~780nm中,抗反射帶寬為約300nm那樣小的問題。人眼即使在該可見區中,特別是在390~720nm的范圍內,也具有較強的感受明暗度的視覺感。
特開2000-111702號公報(專利文獻5)提出使用折射率在1.6以上和折射率在1.5以下的14層膜,具有在波長330~710nm中的反射率為1%以下,在400~680nm中的反射率在0.25%以下的寬帶反射特性的抗反射膜。但是,該抗反射膜在抗反射帶的特別是可見區附近的反射率為最多0.25%以下,不能夠滿足近年的數碼相機鏡頭中可見區的反射率為0.2%的要求。
特開2002-14203號公報(專利文獻6)提出使用由折射率2.407的TiO2和折射率1.450的SiO2形成的14層~17層膜,在波長400~700nm中的反射率為0.1%以下的抗反射膜。但是,對于通常稱為可見區的波長范圍380~780nm,該抗反射膜的抗反射波長帶寬停留在300nm。
[現有技術文獻]
[專利文獻]
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