[實用新型]外延片基盤有效
| 申請號： | 201320559607.4 | 申請日： | 2013-09-10 |
| 公開（公告）號： | CN203474959U | 公開（公告）日： | 2014-03-12 |
| 發明（設計）人： | 鄧順達;林溪漢;陳浩中 | 申請（專利權）人： | 冠銓（山東）光電科技有限公司 |
| 主分類號： | C30B23/02 | 分類號： | C30B23/02;C30B25/02 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 272000 山東省濟寧市*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 外延 片基盤 | ||
【權利要求書】：
1.外延片基盤，由盤體（1）、中心容槽（2）、容槽（3）組成，其特征是中心容槽（2）設置在盤體（1）的中心位置上，容槽（3）均勻設置在中心容槽（2）的四周，中心容槽（2）、容槽（3）內設置外延片，中心容槽（2）、容槽（3）設置為直徑相等的圓形；所述的中心容槽（2）、容槽（3）的深度設置為0～650um；所述的中心容槽（2）、容槽（3）的底部形式設置為平底型、斜底型、凹型、凸型、階梯型中的一種，其底部高度差設置為0.001～0.5um；所述的容槽（3）的布置形式為：盤體的中心位置上設置一個中心容槽（2），中心容槽（2）的四周均勻設置3周容槽（3），每周容槽（3）設置個數從內向外依次分別為：6、12、18。
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