[實用新型]真空高溫烘烤爐的放置臺面

有效

• 申請號: 201320531850.5
• 申請日: 2013-08-28
• 公開（公告）號: CN203429250U
• 公開（公告）日: 2014-02-12
• 發明（設計）人: 孟祥好;夏友龍;孫統暢;孫益鵬
• 申請（專利權）人: 晶旺光電（徐州）有限公司
• 主分類號: C23C16/44
• 分類號: C23C16/44
• 代理公司: 徐州支點知識產權代理事務所(普通合伙) 32244
• 代理人: 張榮亮

技術領域

本實用新型涉及一種真空高溫烘烤爐的放置臺面，特別是用在MOCVD使用后的石墨盤的潔凈烘烤處理設備上。

背景技術

目前，市場上同類的產品使用的臺面為實體臺面，設備工作時，氣流從側面被排出，石墨架上的灰塵及石墨盤上掉落的微粒會殘留在臺面上及被烘烤物品上，影響烘烤質量，并且直接影響到MOCVD產品的產出質量，部分微粒也會附著在腔體內，影響機器運行的環境，每次運行機器前需徹底清潔，無論是對機臺環境還是工作效率都產生了很大的影響。

發明內容

為了克服上述缺陷，本實用新型提供一種可直接受熱以及快速傳熱的真空高溫烘烤爐的放置臺面，其不僅可以改善產品的質量，而且可以提高工作效率。

本實用新型為了解決其技術問題所采用的技術方案是：一種真空高溫烘烤爐的放置臺面，包括腔體內壁、內隔熱層和充壓孔，所述內隔熱層位于腔體內壁的內部，充壓孔設置在腔體內壁上部，穿過腔體內壁與內隔熱層的下部設置有下排氣孔，所述下排氣孔連接外部排氣管道，所述排氣管道為T型管道，位于排氣管道的支路上分別設置有主抽閥和小流量閥，且排氣管道上還分別設置有兩個側排氣孔，且其中一個側排氣孔伸入到腔體內壁內，位于內隔熱層內部以及下排氣孔上方設置有加熱件，所述加熱件的內部設置有石墨平臺，所述石墨平臺上設置有石墨架。

所述下排氣孔的周圍設置有若干加強筋，加強筋的設置，確保了下排氣孔開孔后周邊的牢固性。

所述的加熱件為石墨加熱件。

本實用新型的有益效果是：產品投入后，被烘烤產品可以直接受熱，傳熱快，選擇從機臺下部氣孔排氣，可改變氣流走向，將石墨平臺上掉落在底部的微粒及石墨架上掉落的灰塵直接從下部排走，保持放置臺面及腔體內部的清潔，減少了機臺內的覆蓋涂層及清潔作業，提高了作業效率，最大限度地降低了石墨平臺對MOCVD生長產品質量的影響。

附圖說明

圖1為本實用新型結構示意圖。

其中：1、腔體內壁，2、內隔熱層，3、充壓孔，4、下排氣孔，5、主抽閥，6、側排氣孔，7、小流量閥，8、石墨平臺，9、石墨架，10、加熱件。

具體實施方式

實施例：

如圖1所示，一種真空高溫烘烤爐的放置臺面，包括腔體內壁1、內隔熱層2和充壓孔3，所述內隔熱層2位于腔體內壁1的內部，充壓孔3設置在腔體內壁1上部，穿過腔體內壁1與內隔熱層2的下部設置有下排氣孔4，所述下排氣孔4連接外部排氣管道，所述排氣管道為T型管道，位于排氣管道的支路上分別設置有主抽閥5和小流量閥7，且排氣管道上還分別設置有兩個側排氣孔6，且其中一個側排氣孔6伸入到腔體內壁1內，位于內隔熱層2內部以及下排氣孔4上方設置有加熱件10，所述加熱件10的內部設置有石墨平臺8，所述石墨平臺8上設置有石墨架9。

所述下排氣孔4的周圍設置有若干加強筋，加強筋的設置，確保了下排氣孔4的牢固性。

所述的加熱件10為石墨加熱件.

本裝置通過真空高溫設備，通過程式排氣閥門的設定，可以改變氣體的走向，在真空低壓的狀況下，對被烤物加熱的同時，不斷的通過充、抽壓系統將附著在被烤物品表面的反應物分解，排除腔體。

在產品投入后，被烘烤產品可以直接受熱，傳熱快，選擇從機臺下部氣孔排氣，可改變氣流走向，將石墨平臺上掉落在底部的微粒及石墨架上掉落的灰塵直接從下部排走，保持放置臺面及腔體內部的清潔，減少了機臺內的覆蓋涂層及清潔作業，提高了作業效率，最大限度地降低了石墨平臺對MOCVD生長產品質量的影響，最終達到潔凈被烤物品的目的。