[實用新型]真空高溫烘烤爐的放置臺面有效
| 申請號: | 201320531850.5 | 申請日: | 2013-08-28 |
| 公開(公告)號: | CN203429250U | 公開(公告)日: | 2014-02-12 |
| 發明(設計)人: | 孟祥好;夏友龍;孫統暢;孫益鵬 | 申請(專利權)人: | 晶旺光電(徐州)有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44 |
| 代理公司: | 徐州支點知識產權代理事務所(普通合伙) 32244 | 代理人: | 張榮亮 |
| 地址: | 221000 江蘇*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 真空 高溫 烤爐 放置 臺面 | ||
1.一種真空高溫烘烤爐的放置臺面,包括腔體內壁(1)、內隔熱層(2)和充壓孔(3),所述內隔熱層(2)位于腔體內壁(1)的內部,充壓孔(3)設置在腔體內壁(1)上部,其特征在于:穿過腔體內壁(1)與內隔熱層(2)的下部設置有下排氣孔(4),所述下排氣孔(4)連接外部排氣管道,所述排氣管道為T型管道,位于排氣管道的支路上分別設置有主抽閥(5)和小流量閥(7),且排氣管道上還分別設置有兩個側排氣孔(6),且其中一個側排氣孔(6)伸入到腔體內壁(1)內;位于內隔熱層(2)內部以及下排氣孔(4)的上方設置有加熱件(10),所述加熱件(10)的內部設置有石墨平臺(8),所述石墨平臺(8)上設置有石墨架(9)。
2.根據權利要求1所述的真空高溫烘烤爐的放置臺面,其特征在于:所述下排氣孔(8)的周圍設置有若干加強筋。
3.根據權利要求1或2所述的真空高溫烘烤爐的放置臺面,其特征在于:所述的加熱件(10)為石墨加熱件。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于晶旺光電(徐州)有限公司,未經晶旺光電(徐州)有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320531850.5/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





