[實(shí)用新型]掩模板清洗設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320507550.3
• 申請(qǐng)日: 2013-08-11
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203420006U
• 公開(kāi)（公告）日: 2014-02-05
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 唐軍
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 唐軍
• 主分類(lèi)號(hào): C25F1/00
• 分類(lèi)號(hào): C25F1/00;C25F7/00;C23C14/04
• 代理公司: 暫無(wú)信息
• 代理人: 暫無(wú)信息

1.一種掩模板清洗設(shè)備，用于清洗掩模板上的雜質(zhì)，其特征在于：包括電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置，所述電解清洗裝置內(nèi)盛裝有清洗液，所述清洗液為經(jīng)過(guò)電解后可產(chǎn)生高速氣體的堿性電解液，所述高速氣體帶動(dòng)所述清洗液對(duì)所述掩模板進(jìn)行沖洗；所述漂洗裝置鄰接于所述電解清洗裝置設(shè)置，對(duì)所述掩模板進(jìn)行漂洗；所述干燥裝置鄰接于所述漂洗裝置，對(duì)漂洗后的所述掩模板進(jìn)行干燥處理。

2.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：所述電解清洗裝置包括清洗池，所述清洗池內(nèi)盛裝有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池設(shè)置有兩個(gè)側(cè)壁，所述掩模板位于所述兩個(gè)側(cè)壁之間，所述兩個(gè)側(cè)壁與第一電極連接，所述掩模板與第二電極連接，所述第一電極與第二電極的極性相反。

3.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：所述掩模板固定于一支架，所述支架掛置于所述側(cè)壁上。

4.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：還包括電控裝置，所述電控裝置與所述電解清洗裝置連接，向所述電解清洗裝置輸出電流，并對(duì)所述電流的大小和通電時(shí)間進(jìn)行設(shè)定。

5.如權(quán)利要求4所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：所述電控裝置根據(jù)所述掩模板不同將電流的大小設(shè)定為5A～2000A。

6.如權(quán)利要求4所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：所述電控裝置設(shè)置有定時(shí)模塊，用于當(dāng)所述通電時(shí)間到達(dá)預(yù)定值時(shí)，自動(dòng)斷開(kāi)所述電流。

7.如權(quán)利要求1所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：還包括過(guò)濾裝置，所述過(guò)濾裝置與所述電解清洗裝置連接，濾除所述清洗液中的顆粒雜質(zhì)。

8.如權(quán)利要求2所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：所述電極由耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料制成，所述耐強(qiáng)堿導(dǎo)電材料包括鈦合金、鉛合金或石墨。

9.如權(quán)利要求1～8任一項(xiàng)中所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：還包括用于轉(zhuǎn)運(yùn)所述掩模板的機(jī)械手。

10.如權(quán)利要求9所述的掩模板清洗設(shè)備，其特征在于：還包括防塵外罩，所述電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置密封設(shè)置于所述防塵外罩內(nèi)。