[實用新型]掩模板清洗設備

有效

• 申請號: 201320507550.3
• 申請日: 2013-08-11
• 公開（公告）號: CN203420006U
• 公開（公告）日: 2014-02-05
• 發明（設計）人: 唐軍
• 申請（專利權）人: 唐軍
• 主分類號: C25F1/00
• 分類號: C25F1/00;C25F7/00;C23C14/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及清洗設備技術領域，特別涉及一種掩模板清洗設備。

背景技術

有機電致發光器件，具有自發光、反應時間快、視角廣、成本低、制造工藝簡單、分辨率佳及高亮度等多項優點，被認為是下一代的平面顯示器新興應用技術。在OLED(Organic?Light-Emitting?Diode，有機電致發光二極管)技術中，用于真空蒸鍍的掩模板是一項非常重要和關鍵的部件，該部件的質量直接影響OLED產品的質量和制造成本。

掩模板(Mask)，特別是細小網格的掩模板(Fine?Mask)，在初加工成型后，會在網格內或表面殘留金屬邊角料等顆粒物質，影響掩模板的正常使用。在循環使用的過程中，掩模板上也會沾上一層灰塵等雜質，這些雜質在將掩模板再次投入使用前必須清除。

由于掩模板特別是Fine?Mask對精度要求非常苛刻，例如，一般要求掩模板的網格大小誤差在3μm內，因此，目前傳統的清洗設備無法用于對FineMask或掩模板進行有效清洗，導致掩模板的使用成本大大增加，而且容易因清洗效果不佳而嚴重影響所生產出的OLED顯示屏的質量，甚至會產生大量不良品，直接或間接地提高了OLED顯示屏的生產成本。

實用新型內容

本實用新型的主要目的在于，針對上述現有技術中的不足，提供一種掩模板清洗設備，可有效清洗掩模板表面和網格中的顆粒雜質，并且不會對掩模板造成任何傷害，也不會對掩模板的精度產生不利影響，從而在用于制造OLED顯示屏產品時，顯著提高產品的良品率。

為實現上述發明目的，本實用新型采用以下技術方案。

本實用新型提供的掩模板清洗設備，用于清洗掩模板上的雜質，包括電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置，所述電解清洗裝置內盛裝有清洗液，所述清洗液為經過電解后可產生高速氣體的堿性電解液，所述高速氣體帶動所述清洗液對所述掩模板進行沖洗；所述漂洗裝置鄰接于所述電解清洗裝置設置，對所述掩模板進行漂洗；所述干燥裝置鄰接于所述漂洗裝置，對漂洗后的所述掩模板進行干燥處理。

優選地，所述電解清洗裝置包括清洗池，所述清洗池內盛裝有所述清洗液，所述掩模板浸泡于所述清洗液中；所述清洗池設置有兩個側壁，所述掩模板位于所述兩個側壁之間，所述兩個側壁與第一電極連接，所述掩模板與第二電極連接，所述第一電極與第二電極的極性相反。

優選地，所述掩模板固定于一支架，所述支架掛置于所述側壁上。

優選地，還包括電控裝置，所述電控裝置與所述電解清洗裝置連接，向所述電解清洗裝置輸出電流，并對所述電流的大小和通電時間進行設定。

優選地，所述電控裝置根據所述掩模板不同將電流的大小設定為5A～2000A。

優選地，所述電控裝置設置有定時模塊，用于當所述通電時間到達預定值時，自動斷開所述電流。

優選地，還包括過濾裝置，所述過濾裝置與所述電解清洗裝置連接，濾除所述清洗液中的顆粒雜質。

優選地，所述電極由耐強堿導電材料制成，所述耐強堿導電材料包括鈦合金、鉛合金或石墨。

優選地，還包括用于轉運所述掩模板的機械手。

優選地，還包括防塵外罩，所述電解清洗裝置、漂洗裝置和干燥裝置密封設置于所述防塵外罩內。

本實用新型具有以下優點：

1、本實用新型的掩模板清洗設備利用大電流末端放電原理，可對掩模板網格內的金屬顆粒進行有效剝離。由于采用的是物理方法來去除雜質，而非直接采用工人或機械接觸的方法，因此，可以避免因操作不當而對掩模板產生傷害，從而保證掩模板的精度，提高OLED顯示屏的良品率。

2、清洗劑電解產生高速氣體，利用氣體帶動清洗液對掩模板進行沖刷，可以有效提升清洗效果，并避免人為接觸。

3、利用強堿作為清洗液，可以有效去除掩模板上的灰塵顆粒，從而可以一次性完成對金屬顆粒和灰塵顆粒的清洗，節省清洗工藝，節約清洗成本。

附圖說明

圖1是本實用新型實施例中掩模板清洗設備的整體結構示意圖。

圖2是本實用新型實施例中電解清洗裝置的俯視結構示意圖。

本實用新型目的的實現、功能特點及優點將結合實施例，參照附圖做進一步說明。

具體實施方式

以下將結合附圖及具體實施例詳細說明本實用新型的技術方案，以便更清楚、直觀地理解本實用新型的發明實質。