[實用新型]一種浸錫設備有效
| 申請號： | 201320485549.5 | 申請日： | 2013-08-09 |
| 公開（公告）號： | CN203462115U | 公開（公告）日： | 2014-03-05 |
| 發明（設計）人： | 王松濤;韓雙華 | 申請（專利權）人： | 恒諾微電子（嘉興）有限公司 |
| 主分類號： | C23C2/34 | 分類號： | C23C2/34;C23C2/08;B23K1/08 |
| 代理公司： | 杭州天欣專利事務所 33209 | 代理人： | 魏美貞 |
| 地址： | 314000 浙江省嘉*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 設備 | ||
【權利要求書】：
1.一種浸錫設備，其特征在于：包括機架、氣缸、真空管道、控制系統、真空發生器、浸錫頭；氣缸固定在機架上；浸錫頭固定在氣缸的活塞桿上，浸錫頭開有氣孔，氣孔與真空管道接通，真空管道與真空發生器接通；機架設有錫爐安放位，錫爐安放位位于浸錫頭下方；控制系統與氣缸連接。
2.根據權利要求1所述的浸錫設備，其特征在于：所述的控制系統設有行程調節桿、行程感應器、時間繼電器、電磁閥。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調節
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態槽液上的覆蓋物
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C2-00 用熔融態覆層材料且不影響形狀的熱浸鍍工藝；其所用的設備
C23C2-02 .待鍍材料的預處理，例如為了在選定的表面區域上鍍覆
C23C2-04 .以覆層材料為特征的
C23C2-14 .過量熔融覆層的除去；覆層厚度的控制或調節
C23C2-26 .后處理
C23C2-30 .熔劑或融態槽液上的覆蓋物
