[實(shí)用新型]磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線前、后粗抽真空室有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320483258.2 | 申請(qǐng)日： | 2013-08-08 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN203440442U | 公開（公告）日： | 2014-02-19 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 郭玉芬;丁秀芳;趙彬;莊慧顯;丁波;曹本偉;董磊;尹懷秀 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 青島環(huán)球集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號(hào)： | C23C14/56 | 分類號(hào)： | C23C14/56;C23C14/35;C23C14/14 |
| 代理公司： | 濟(jì)南舜源專利事務(wù)所有限公司 37205 | 代理人： | 王連君 |
| 地址： | 266400 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 磁控濺射 生產(chǎn)線 后粗抽 真空 | ||
1.一種磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線前、后粗抽真空室，包括真空室、上蓋板、傳動(dòng)軸、外真空鎖、內(nèi)真空鎖，其中，兼作玻璃板的進(jìn)出通道的外真空鎖設(shè)置在真空室左端的側(cè)壁上，兼作真空室進(jìn)出口的內(nèi)真空鎖設(shè)置在真空室右端側(cè)壁上，其特征在于，所述真空室右端部分的高度大于其左端部分的高度,其整體呈臺(tái)階式矩形結(jié)構(gòu)，所述真空室的右端的頂部設(shè)置有真空鎖維修蓋，所述上蓋板呈凹形，其除外周密封用方框外，中間部分整體下凹，所述上蓋板的下凹部分的下表面與所述真空室左側(cè)壁頂端的上密封法蘭框底面平齊，所述上蓋板與真空室左右側(cè)壁之間通過所述真空室上密封法蘭框連接。?
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線前、后粗抽真空室，其特征在于，所述真空室的底部每相鄰兩個(gè)傳動(dòng)軸之間的空間內(nèi)設(shè)置有若干兩端密閉的方鋼。?
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁控濺射鋁鏡生產(chǎn)線前、后粗抽真空室，其特征在于，所述傳動(dòng)軸為空心管軸，其中段部分為空心管，兩個(gè)軸頭分別焊接在空心管的兩端。?
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆；用金屬材料對(duì)材料的鍍覆；表面擴(kuò)散法，化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆，例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
