[實用新型]光掩模板導向片去除機有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320475833.4 | 申請日: | 2013-08-05 |
| 公開(公告)號: | CN203422555U | 公開(公告)日: | 2014-02-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 凌震軍 | 申請(專利權)人: | 上海凸版光掩模有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/82 | 分類號: | G03F1/82 |
| 代理公司: | 上海光華專利事務所 31219 | 代理人: | 李儀萍 |
| 地址: | 200233 *** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 模板 導向 去除 | ||
1.一種光掩模板導向片去除機,其特征在于,所述光掩模板導向片去除機至少包括:
支架;所述支架包括面板及安裝于所述面板橫向兩側用以支撐所述面板的至少兩個支腳;所述面板中設有第一通槽;所述第一通槽縱向側邊的底部相向延伸設有用于承載光掩模板的臺階;所述第一通槽橫向兩側分別設有第二通槽及第三通槽;所述第二通槽的長度小于所述第一通槽的長度;所述第三通槽的長度大于所述第一通槽的長度;
用以加熱導向片的兩個加熱電極;所述加熱電極分別裝設于兩個電極支架上;兩個電極支架裝設于靠近所述第三通槽一側的支腳上;所述加熱電極頂面正對所述第三通槽;
電源模塊;所述電源模塊通過導線分別與兩個加熱電極連接;
用以設定加熱時間的定時模塊及用以設定加熱溫度的溫控模塊,所述定時模塊及所述溫控模塊分別與所述電源模塊相連;
用以固定光掩模板的至少兩個轉(zhuǎn)動壓片,裝設于所述第一通槽縱向兩側的所述面板上。
2.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:兩個加熱電極以并聯(lián)方式連接。
3.根據(jù)權利要求2所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述電源模塊上設有分別對兩個加熱電極進行控制的兩個開關。
4.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述支腳為柱狀或板狀。
5.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述加熱電極通過第一定位元件裝設于所述電極支架上并且位置上下可調(diào)。
6.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述電極支架通過第二定位元件裝設于所述支腳上并且位置上下可調(diào)。
7.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述定時模塊的時間可調(diào)范圍是0.5~30分鐘。
8.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述溫控模塊的溫度可調(diào)范圍是1~500℃。
9.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述加熱電極的橫截面為圓形或方形。
10.根據(jù)權利要求1所述的光掩模板導向片去除機,其特征在于:所述加熱電極頂面面積是5~200mm2。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





