[實用新型]磁控濺射門防下垂裝置

有效

• 申請號: 201320450283.0
• 申請日: 2013-07-26
• 公開（公告）號: CN203360561U
• 公開（公告）日: 2013-12-25
• 發明（設計）人: 章新良
• 申請（專利權）人: 蚌埠雷諾真空技術有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35;C23C14/56
• 代理公司: 蚌埠鼎力專利商標事務所有限公司 34102
• 代理人: 王琪

技術領域

本實用新型涉及一種防下垂裝置，特別是一種磁控濺射門防下垂裝置。

背景技術

磁控濺射鍍膜技術是真空鍍膜技術中應用最廣的技術之一，磁控濺射法是在真空條件下，電離惰性氣體，氣體離子在電場的作用下，轟擊金屬靶材使金屬原子沉積在玻璃表面上的一種工藝技術。而傳統的磁控濺射沉積線中，由于磁控濺射門的材料是金屬，長時間開關會因門的重量導致磁控濺射門下垂，從而達不到密封的效果。

實用新型內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種結構簡單、使用方便的磁控濺射門防下垂裝置。

為解決上述技術問題，本實用新型提供了一種磁控濺射門防下垂裝置，該防下垂裝置為支撐塊，支撐塊內部開有臺階孔，其中右側孔的直徑大于左側孔的直徑，支撐塊上端面靠右側有一段斜面，所述斜面向右下角傾斜，傾斜角度為8～15度。

為簡潔說明問題起見，以下對本實用新型所述磁控濺射門防下垂裝置均簡稱為本裝置。

使用時，將本裝置用螺栓固定在磁控濺射室的墻體上，螺栓頭位于右側孔內，螺栓的螺紋段位于磁控濺射室的墻體內，關閉磁控濺射門時，門下端沿斜面向上移動，從而使門恢復到原始位置，達到密封效果。本裝置利用支撐塊和螺栓共同承擔磁控濺射門的重量，防止磁控濺射門下垂。

所述支撐塊左側上端部有凸出的臺階。將本裝置安裝在磁控濺射室的墻體上時，該臺階可以搭載在墻體的凸臺上，從而利用墻體本身達到支撐磁控濺射門的目的，能夠有效緩解螺栓承擔的強度，防止長期使用螺栓斷裂。

本實用新型的有益效果是：結構簡單，使用方便，利用支撐塊、螺栓和墻體共同達到支撐磁控濺射門的目的，有效防止磁控濺射門下垂，從而保證門關上后磁控濺射室的密封度。

附圖說明

圖1是本裝置的主視圖。

圖2是圖1的A-A剖視圖。

圖3是將本裝置的使用狀態示意圖。

圖4是圖3的M部放大圖。

具體實施方式

下面結合附圖并通過最佳實施方式來進一步說明本實用新型：

磁控濺射門防下垂裝置，如圖1和圖2所示，該防下垂裝置為支撐塊1，所述支撐塊1內部開有臺階孔，其中右側孔13的直徑大于左側孔12的直徑，支撐塊1上端面靠右側有一段斜面11，斜面11向右下角傾斜，傾斜角度為10度，支撐塊1左側上端部有凸出的臺階14。

使用時，將本裝置用螺栓2固定在磁控濺射室的墻體b上，螺栓頭位于右側孔13內，螺栓頭的直徑大于左側孔12的直徑，螺栓的螺紋段位于磁控濺射室的墻體b內，臺階14搭載在墻體b的凸臺c上，如圖3和圖4所示，關閉磁控濺射門a時，門a下端沿斜面11向上移動，從而使門a恢復到原始位置，達到密封效果。本裝置結構簡單，使用方便，利用支撐塊1、螺栓2和墻體b的凸臺c共同達到支撐磁控濺射門a的目的，有效防止磁控濺射門下垂，從而保證門關上門a后磁控濺射室的密封度。

以上所述僅是本實用新型的最佳實施方式。應當指出，對于本領域的普通技術人員來說，在不脫離本實用新型原理的前提下，還可以對本實用新型的技術方案進行若干變形或者等同替換，這些也應視為屬于本實用新型的保護范圍。