[實用新型]一種基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320426347.3 | 申請日: | 2013-07-16 |
| 公開(公告)號: | CN203367355U | 公開(公告)日: | 2013-12-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李國強;凌嘉輝;劉玫潭;劉家成 | 申請(專利權(quán))人: | 華南理工大學(xué) |
| 主分類號: | H01L33/48 | 分類號: | H01L33/48;H01L33/64 |
| 代理公司: | 廣州市華學(xué)知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44245 | 代理人: | 陳文姬 |
| 地址: | 510641 廣*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 alsic 復(fù)合 封裝 led | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種板上封裝的LED,特別涉及一種基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED。
背景技術(shù)
隨著LED的飛速發(fā)展,LED的功率越來越大,并在工作時產(chǎn)生不必要的熱能,直接影響了LED的正常工作。如果不能通過有效途徑把熱量導(dǎo)出,將會影響LED的工作效率,最終使LED失效。因此,人們對封裝材料提出越來越苛刻的要求。
傳統(tǒng)的封裝材料包括硅基板,金屬基板和陶瓷基板等。硅和陶瓷基板加工困難,成本高,熱導(dǎo)率低;金屬材料的熱膨脹系數(shù)與LED芯片襯底材料不匹配,在LED工作循環(huán)多次后,容易產(chǎn)生熱應(yīng)力,造成芯片和基板間產(chǎn)生微小裂縫,增大熱阻,最終導(dǎo)致脫落。因此,這些傳統(tǒng)的封裝材料很難滿足封裝基板的苛刻需求。
國內(nèi)外新研發(fā)的散熱基板材料有金屬芯印刷電路板(MCPCB)、覆銅陶瓷板(DBC)和金屬基低溫?zé)Y(jié)陶瓷基板(LTCC-M)。其中,金屬芯印刷電路板熱導(dǎo)率受到絕緣層的限制,熱導(dǎo)率低,且不能實現(xiàn)板上封裝;覆銅陶瓷板采用直接鍵合方式將陶瓷和金屬鍵合在一起,提高了熱導(dǎo)率,同時使得熱膨脹系數(shù)控制在一個合適的范圍,但金屬和陶瓷的反應(yīng)能力低,潤濕性不好,使得鍵合難度高,界面結(jié)合強度低,易脫落;金屬基低溫?zé)Y(jié)陶瓷基板對成型尺寸精度要求高,工藝復(fù)雜,也同樣存在金屬和陶瓷潤濕性不好、易脫落的難題。
實用新型內(nèi)容
為了克服現(xiàn)有技術(shù)的上述缺點與不足,本實用新型的目的在于提供一種基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED,結(jié)構(gòu)簡單、散熱性能好,使用壽命長。
本實用新型的目的通過以下技術(shù)方案實現(xiàn):
一種基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED,包括鍍有AlN絕緣層的AlSiC復(fù)合散熱基板、兩個銅膜電極、LED芯片和金線,所述LED芯片封裝在所述鍍有AlN絕緣層的AlSiC復(fù)合散熱基板上;兩個銅膜電極鍍于AlN絕緣層上,分別通過金線與LED芯片的正、負極連接。
所述AlN絕緣層的厚度為2.5μm-3μm。
所述LED芯片為單顆粒封裝的LED芯片或為多顆粒LED芯片集成的光源模塊。
所述LED芯片采用COB封裝工藝封裝在所述鍍有AlN絕緣層的AlSiC復(fù)合散熱基板上。
所述AlN絕緣層為采用磁控濺射方法在AlSiC復(fù)合散熱基板的表面鍍的AlN絕緣層。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本實用新型具有以下優(yōu)點和有益效果:
(1)本實用新型采用AlSiC復(fù)合散熱基板,AlSiC復(fù)合材料由于原材料價格便宜,能近凈成形復(fù)雜形狀,且具有熱導(dǎo)率高、膨脹系數(shù)可調(diào)、比剛度大、密度小,使封裝結(jié)構(gòu)具有功率密度高、芯片壽命長、可靠性高和質(zhì)量輕等特點,在電子封裝領(lǐng)域展現(xiàn)出了良好的應(yīng)用前景。通過調(diào)節(jié)AlSiC復(fù)合材料的熱膨脹系數(shù),使其與LED芯片材料相匹配;采用AlSiC復(fù)合散熱基板不但有效地解決LED芯片工作時的散熱問題,同時解決了散熱基板與芯片材料熱膨脹不匹配的問題,使板上封裝的LED芯片不易脫落,提高了LED的使用壽命,適用于低成本大功率LED的制造。
(2)本實用新型通過在AlSiC復(fù)合散熱基板鍍上AllN絕緣層,可以防止基板上的銅膜電極與AlSiC復(fù)合材料因?qū)ǘa(chǎn)生的短路現(xiàn)象。AlN是高導(dǎo)熱性和高絕緣性的材料,鍍上AlN絕緣層不但可以起到很好的絕緣效果,同時也不會影響基板的導(dǎo)熱效果。
附圖說明
圖1為本實用新型的實施例1的基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED示意圖。
圖2為本實用新型的實施例2的基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED示意圖。
具體實施方式
下面結(jié)合實施例,對本實用新型作進一步地詳細說明,但本實用新型的實施方式不限于此。
實施例1
如圖1所述,本實施例的基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED,包括鍍有AlN絕緣層2的AlSiC復(fù)合散熱基板1、兩個銅膜電極3、LED芯片41、金線5。
所述LED芯片封裝采用COB(chip?on?board,簡稱COB)封裝工藝封裝在所述鍍有AlN絕緣層的AlSiC復(fù)合散熱基板上;兩個銅膜電極鍍于AlN絕緣層上,分別通過金線與LED芯片的正、負極連接。本實施例的AlN絕緣層的厚度為2.5μm,LED芯片為單顆粒封裝的LED芯片。
本實施例的基于AlSiC復(fù)合基板封裝的LED的制備方法如下:
(1)將未經(jīng)拋光清洗的AlSiC復(fù)合基板拋光至鏡面,拋光后,分別用丙酮和無水乙醇浸泡所述的AlSiC復(fù)合基板,并將其放入超聲波清洗儀中清洗15分鐘,以清除基板上附著的油脂等雜物。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于華南理工大學(xué),未經(jīng)華南理工大學(xué)許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320426347.3/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





