[實用新型]大單晶研磨裝置

有效

• 申請號: 201320423320.9
• 申請日: 2013-07-17
• 公開（公告）號: CN203343871U
• 公開（公告）日: 2013-12-18
• 發明（設計）人: 李見;梁杰
• 申請（專利權）人: 鄭州大華機電技術有限公司
• 主分類號: B24B37/04
• 分類號: B24B37/04;B24B37/12;B24B37/005
• 代理公司: 鄭州中原專利事務所有限公司 41109
• 代理人: 霍彥偉;李想

1.一種大單晶研磨裝置，包括機架（12），其特征在于：在機架（12）上設有操作臺（13），操作臺（13）上一側設有磨頭裝置，磨頭裝置包括電機（1），電機（1）通過傳動裝置帶動研磨盤（3）旋轉，操作臺（13）上另一側設有大單晶夾具進給機構。

2.根據權利要求1所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述進給機構包括上下進給機構和前后進給機構。

3.根據權利要求2所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述上下進給機構包括上下滑動裝置（5），上下滑動裝置（5）的一側與大單晶夾頭（4）相連，其另一側與氣缸（6）相連，氣缸（6）的電控輸出端和電控系統（10）相連接。

4.根據權利要求3所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述大單晶夾頭（4）的旋轉范圍為360度。

5.根據權利要求3或4所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述氣缸（6）為定位氣缸，定位氣缸上設有控制壓力的氣動比例閥。

6.根據權利要求5所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述定位氣缸內設有位置傳感器。

7.根據權利要求2或3或4所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述前后進給機構包括前后進給電機（7），前后進給電機（7）輸出軸端齒輪（8）與齒條（9）相嚙合，前后進給電機（7）上設有定位傳感器（11），定位傳感器（11）將采集的信號輸入電控系統（10）。

8.根據權利要求7所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述前后進給電機（7）前端和后端均設有定位傳感器（11）。

9.根據權利要求1所述的大單晶研磨裝置，其特征在于：所述傳動裝置包括研磨主軸（2）和傳動帶，在研磨主軸（2）上固定有研磨盤（3），研磨主軸（2）通過傳動帶與電機（1）相連。