[實用新型]一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結(jié)構(gòu)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320418469.8 | 申請日: | 2013-07-15 |
| 公開(公告)號: | CN203373415U | 公開(公告)日: | 2014-01-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 羅永春 | 申請(專利權(quán))人: | 廈門映日新材料科技有限公司 |
| 主分類號: | C23C4/12 | 分類號: | C23C4/12 |
| 代理公司: | 廈門市誠得知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 35209 | 代理人: | 李伊飏 |
| 地址: | 361000 福建省廈*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 真空 噴涂 結(jié)構(gòu) | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結(jié)構(gòu),按國際專利分類表(IPC)劃分屬于真空靶材生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。
背景技術(shù)
靶材是在濺射沉積技術(shù)中用做陰極的材料。該陰極材料在帶正電荷的陽離子撞擊下以分子、原子或離子的形式脫離陰極而在陽極表面重新沉積。通俗的解釋為靶材是高速荷能粒子轟擊的目標材料,用于高能激光武器中,不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作用時,會產(chǎn)生不同的殺傷破壞效應(yīng)。而靶材在制造過程中,其必須在管狀金屬基材的基礎(chǔ)上進行等離子噴涂,進行等離子噴涂環(huán)境是決定靶材質(zhì)量與品質(zhì)的重要因素之一。
目前,市場上的靶材在等離子噴涂工序中一般在正常操作間中生產(chǎn),這樣生產(chǎn)出的靶材具有純度低、致密度差、氧、氮含量高、結(jié)合強度低等不足,若想克服上述不足,靶材需在真空環(huán)境先進行噴涂工藝,而現(xiàn)有提供真空環(huán)境的器具均不能滿足靶材生產(chǎn)的要求,如氧氮氣氛控制、冷卻效果、安全、實時觀察等不足。
由此,本發(fā)明人考慮對現(xiàn)有提供或保持真空狀態(tài)的器具進行改進,本案由此產(chǎn)生。
實用新型內(nèi)容
針對現(xiàn)有技術(shù)的不足,本實用新型提供了一種結(jié)構(gòu)簡單、合理、成本低、實現(xiàn)真空效果的真空噴涂罐結(jié)構(gòu),該真空噴涂罐結(jié)構(gòu)用于靶材生產(chǎn)中,實現(xiàn)了靶材的真空生產(chǎn),大大提高靶材產(chǎn)品的質(zhì)量及品質(zhì)。
為達到上述目的,本實用新型是通過以下技術(shù)方案實現(xiàn)的:
一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結(jié)構(gòu),該真空噴涂罐為內(nèi)部呈真空狀態(tài)的雙層式罐體及罐體兩端的密封端蓋,該雙層式罐體包括內(nèi)層罐體及外層罐體,所述外層罐體包裹與內(nèi)層罐體外側(cè),并在內(nèi)層罐體及外層罐體之間形成水冷空腔,所述水冷空腔內(nèi)部設(shè)置有罐體水冷結(jié)構(gòu)。
進一步,所述水冷結(jié)構(gòu)為多條設(shè)置于水冷空腔內(nèi)的循環(huán)水冷管,所述循環(huán)水冷管包覆于內(nèi)層罐體上,且與內(nèi)層罐體配合形成高效水冷結(jié)構(gòu)。
進一步,所述雙層式罐體上設(shè)置多個觀察窗,所述多個觀察窗呈一字型排列于罐體之上,每個觀察窗上設(shè)置有防塵或刮塵清潔裝置。
進一步,所述觀察窗的數(shù)量為7個,每個觀察窗直徑不小于100mm,每個觀察窗中心距地面高度為1400mm。
進一步,所述7個觀察窗中位于中央位置的觀察窗的直徑為300mm,且該觀察窗為法蘭觀察窗。
進一步,所述法蘭觀察窗為設(shè)置有法蘭盤的觀察窗。
進一步,所述雙層式罐體上設(shè)置有抽氣口及排氣口,所述排氣口數(shù)量為3個,且每個抽氣口均配置法蘭蓋。
進一步,所述密封端蓋上設(shè)置有端蓋觀察窗,該端蓋觀察窗為法蘭觀察窗。
進一步,所述密封端蓋為配置有自鎖裝置的罐體端蓋。
進一步,所述雙層式罐體為圓形罐體。
本實用新型采用雙層結(jié)構(gòu)罐體,且雙層中增加水冷結(jié)果,實現(xiàn)在保持真空狀態(tài)下還同時實現(xiàn)快速降溫冷卻的目的,從而提高生產(chǎn)效率,降低成本;而在真空狀態(tài)下生產(chǎn)的靶材,具有高致密度、高純度、低氧、氮含量、高結(jié)合強度等優(yōu)點。
附圖說明
圖1是本實用新型結(jié)構(gòu)正視圖;
圖2是圖1的側(cè)視圖;
圖3是圖1中A-A剖視圖;
圖4是圖1中C-C剖視圖。
具體實施方式
下面結(jié)合附圖對本實用新型作進一步說明:
實施例:請參閱圖1至圖4所示,一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結(jié)構(gòu),該真空噴涂罐為內(nèi)部呈真空狀態(tài)的雙層式罐體1及罐體兩端的密封端蓋2,所述雙層式罐體1為圓形罐體,該雙層式罐體1直身段總長5000mm,內(nèi)徑1500mm,外加2個半球形端蓋2,全部采用碳鋼設(shè)計,相對極限真空度4Pa;該雙層式罐體1包括內(nèi)層罐體11及外層罐體12,所述外層罐體12包裹與內(nèi)層罐體11外側(cè),并在內(nèi)層罐體11及外層罐體12之間形成水冷空腔13,所述水冷空腔13內(nèi)部設(shè)置有罐體水冷結(jié)構(gòu)3;所述水冷結(jié)構(gòu)3為多條設(shè)置于水冷空腔內(nèi)的循環(huán)水冷管,所述循環(huán)水冷管包覆于內(nèi)層罐體12上,且與內(nèi)層罐體12配合形成高效水冷結(jié)構(gòu)。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C4-00 熔融態(tài)覆層材料噴鍍法,例如火焰噴鍍法、等離子噴鍍法或放電噴鍍法的鍍覆
C23C4-02 .待鍍材料的預(yù)處理,例如為了在選定的表面區(qū)域鍍覆
C23C4-04 .以鍍覆材料為特征的
C23C4-12 .以噴鍍方法為特征的
C23C4-18 .后處理
C23C4-14 ..用于長形材料的鍍覆
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