[實用新型]一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構

有效

• 申請號: 201320418469.8
• 申請日: 2013-07-15
• 公開（公告）號: CN203373415U
• 公開（公告）日: 2014-01-01
• 發明（設計）人: 羅永春
• 申請（專利權）人: 廈門映日新材料科技有限公司
• 主分類號: C23C4/12
• 分類號: C23C4/12
• 代理公司: 廈門市誠得知識產權代理事務所(普通合伙) 35209
• 代理人: 李伊飏

1.一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：該真空噴涂罐為內部呈真空狀態的雙層式罐體及罐體兩端的密封端蓋，該雙層式罐體包括內層罐體及外層罐體，所述外層罐體包裹與內層罐體外側，并在內層罐體及外層罐體之間形成水冷空腔，所述水冷空腔內部設置有罐體水冷結構。

2.根據權利要求1所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述水冷結構為多條設置于水冷空腔內的循環水冷管，所述循環水冷管包覆于內層罐體上，且與內層罐體配合形成高效水冷結構。

3.根據權利要求1所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述雙層式罐體上設置多個觀察窗，所述多個觀察窗呈一字型排列于罐體之上，每個觀察窗上設置有防塵或刮塵清潔裝置。

4.根據權利要求3所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述觀察窗的數量為7個，每個觀察窗直徑不小于100mm，每個觀察窗中心距地面高度為1400mm。

5.根據權利要求4所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述7個觀察窗中位于中央位置的觀察窗的直徑為300mm，且該觀察窗為法蘭觀察窗。

6.根據權利要求5所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述法蘭觀察窗為設置有法蘭盤的觀察窗。

7.根據權利要求1所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述雙層式罐體上設置有抽氣口及排氣口，所述排氣口數量為3個，且每個抽氣口均配置法蘭蓋。

8.根據權利要求1所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述密封端蓋上設置有端蓋觀察窗，該端蓋觀察窗為法蘭觀察窗。

9.根據權利要求8所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述密封端蓋為配置有自鎖裝置的罐體端蓋。

10.根據權利要求1或3或7所述的一種用于真空靶材噴涂的真空噴涂罐結構，其特征在于：所述雙層式罐體為圓形罐體。