[實用新型]一種版盒處理裝置有效
| 申請號: | 201320417269.0 | 申請日: | 2013-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN203444237U | 公開(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發明(設計)人: | 牟吉元;胡松立;姜杰;姜曉玉;王邵玉;馬喜寶 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 處理 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及半導體領域,特別涉及一種版盒處理裝置。
背景技術
光刻機是一種將掩膜版上的圖像投影到硅片上的光刻設備,光刻效率的高低是評價光刻機的技術指標之一。隨著科技的進步以及集成電路制造行業得快速發展,光刻效率的提高成為光刻機增強競爭力的途徑之一,在光刻過程中對掩膜版的傳輸效率對提高光刻效率起著至關重要的作用。
在現有技術中,在光刻機領域通常使用版盒來存儲與保護掩膜版,將掩膜版放置在版盒中進行傳輸,也就是說對版盒的傳輸即對掩膜版的傳輸。
目前,版盒的傳輸通常有單版版盒的傳輸和多版版盒的傳輸。
在光刻機領域所指的掩膜傳輸就是對掩膜版的傳輸,即將掩膜版放到版盒中用傳輸裝置將其傳輸至光刻的各個工位,進行對掩膜版相應的處理。在整個掩膜版的傳輸過程中對單版版盒的操作流程如圖1所示:將裝有掩膜版的單版版盒放入單版版盒處理裝置中(在放單版版盒的過程中要保證操作人員能夠輕松正確的將單版版盒放到位,放到位后要保證單版版盒定位正確,且不能隨運動機構而晃動,導致單版版盒掉落),傳輸裝置帶動單版版盒處理裝置運動,運動到規定工位,然后對單版版盒中的掩膜版進行檢測,檢測是否存在掩膜版,確認有掩膜版之后利用解鎖機構開啟單版版盒的版盒門,通過掩膜版取放機構取拿掩膜版,然后關閉單版版盒的版盒門。對于傳輸裝置只具有傳輸單版版盒能力的傳輸裝置如果要繼續傳輸掩膜版就需要運動到初始位置,進行重新加單版版盒,然后再進行掩膜版的處理流程。
如圖2所示,對于具有能傳輸多版版盒的處理裝置,當對一個版盒的的掩膜版處理結束后,傳輸裝置帶動多版版盒處理裝置運動,使下一個版盒運動到規定工位,再進行掩膜版的處理,直到所有掩膜版都處理結束,多版版盒運動裝置運動到原點,進行下一批多版版盒的加載。但即便是多版版盒傳輸,可處理的版盒數量是一定的,即版盒數量是不變的,且不具有可擴展功能,傳輸效率不高。
實用新型內容
本實用新型的目的在于提供一種版盒處理裝置,以解決現有技術中版盒傳輸效率不高的問題。
為了解決上述技術問題,本實用新型采用的技術方案是:一種版盒處理裝置,由若干個單版版盒處理裝置組成,所述單版版盒處理裝置包括:層連接組件和定位組件;其中,
所述層連接組件用于連接相鄰2個所述單版版盒處理裝置;
所述定位組件用于2個相鄰連接的所述單版版盒處理裝置之間的定位。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,
所述層連接組件包括層連接塊,所述層連接塊設置于所述單版版盒處理裝置的一側;
所述定位組件包括定位銷,所述定位銷設置于所述單版版盒處理裝置的另一側。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,所述每個單版版盒處理裝置還包括:版盒、第一顯示裝置和第二顯示裝置;
所述層連接組件還包括左側連接裝置和右側連接裝置;其中,
所述第一顯示裝置與所述左側連接裝置連接,共同設置于所述版盒的左側;
所述第二顯示裝置與所述右側連接裝置連接,共同設置于所述版盒的右側。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,所述每個單版版盒處理裝置還包括:版盒解鎖機構,所述版盒解鎖機構與所述左側連接裝置連接。
本發明中左側和右側連接可以互換。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,所述版盒解鎖機構包括:擺缸、擺缸安裝板、擺桿和位置傳感器;其中,
所述擺缸與所述擺缸安裝板連接;
所述擺桿與所述擺缸連接;
所述位置傳感器與所述擺缸安裝板連接。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,包括:版盒解鎖機構,所述版盒解鎖機構通過固定支架與若干個所述單版版盒處理裝置中的某一個連接。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,所述版盒解鎖機構包括:擺缸、擺缸安裝板、擺桿和位置傳感器;其中,
所述擺缸與所述擺缸安裝板連接;
所述擺桿與所述擺缸連接;
所述位置傳感器與所述擺缸安裝板連接。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,所述左側連接裝置包括:第一側板、第二側板、緊固件和連接件;其中,
所述第一側板和第二側板通過一螺釘連接后,再通過所述連接件固定連接。
進一步的,在所述的版盒處理裝置中,所述左側連接裝置還包括:第一外螺紋型軸承和裝有滾珠軸承的彈簧裝置,所述第一外螺紋型軸承與所述第一側板連接,所述裝有滾珠軸承的彈簧裝置與所述第二側板連接。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





