[實用新型]一種版盒處理裝置有效
| 申請號: | 201320417269.0 | 申請日: | 2013-07-12 |
| 公開(公告)號: | CN203444237U | 公開(公告)日: | 2014-02-19 |
| 發明(設計)人: | 牟吉元;胡松立;姜杰;姜曉玉;王邵玉;馬喜寶 | 申請(專利權)人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/66 | 分類號: | G03F1/66 |
| 代理公司: | 上海思微知識產權代理事務所(普通合伙) 31237 | 代理人: | 屈蘅;李時云 |
| 地址: | 201203 上*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 處理 裝置 | ||
1.一種版盒處理裝置,由若干個單版版盒處理裝置組成,其特征在于,所述單版版盒處理裝置包括:層連接組件和定位組件;其中,
所述層連接組件用于連接相鄰2個所述單版版盒處理裝置;
所述定位組件用于2個相鄰連接的所述單版版盒處理裝置之間的定位。
2.根據權利要求1所述的版盒處理裝置,其特征在于,
所述層連接組件包括層連接塊,所述層連接塊設置于所述單版版盒處理裝置的一側;
所述定位組件包括定位銷,所述定位銷設置于所述單版版盒處理裝置的另一側。
3.根據權利要求1所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述每個單版版盒處理裝置還包括:版盒、第一顯示裝置和第二顯示裝置;
所述層連接組件還包括一側連接裝置和另一側連接裝置;其中,
所述第一顯示裝置與所述一側連接裝置連接,共同設置于所述版盒的一側;
所述第二顯示裝置與所述另一側連接裝置連接,共同設置于所述版盒的另一側。
4.根據權利要求3所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述每個單版版盒處理裝置還包括:版盒解鎖機構,所述版盒解鎖機構與所述一側連接裝置連接。
5.根據權利要求4所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述版盒解鎖機構包括:擺缸、擺缸安裝板、擺桿和位置傳感器;其中,
所述擺缸與所述擺缸安裝板連接;
所述擺桿與所述擺缸連接;
所述位置傳感器與所述擺缸安裝板連接。
6.根據權利要求1至3中任一所述的版盒處理裝置,其特征在于,包括:版盒解鎖機構,所述版盒解鎖機構通過固定支架與若干個所述單版版盒處理裝置中的某一個連接。
7.根據權利要求6所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述版盒解鎖機構包括:擺缸、擺缸安裝板、擺桿和位置傳感器;其中,
所述擺缸與所述擺缸安裝板連接;
所述擺桿與所述擺缸連接;
所述位置傳感器與所述擺缸安裝板連接。
8.根據權利要求3所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述一側連接裝置包括:第一側板、第二側板、緊固件和連接件;其中,
所述第一側板和第二側板通過緊固件連接后,再通過所述連接件固定連接。
9.根據權利要求8所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述一側連接裝置還包括:第一外螺紋型軸承和裝有滾珠軸承的彈簧裝置,所述第一外螺紋型軸承與所述第一側板連接,所述裝有滾珠軸承的彈簧裝置與所述第二側板連接。
10.根據權利要求3所述的版盒處理裝置,其特征在于,所述另一連接裝置包括:第三側板和第二外螺紋型軸承,所述第二外螺紋型軸承與所述第三側板連接。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





