[實用新型]一種四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320407876.9 | 申請日: | 2013-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN203344423U | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙長海;高海山;許浩;魏高峰;江浩 | 申請(專利權(quán))人: | 上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B17/06 | 分類號: | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 31253 | 代理人: | 左祝安 |
| 地址: | 201315 上海市浦東新*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 四層膜系 結(jié)構(gòu) 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實用新型涉及玻璃深加工技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃。
背景技術(shù)
現(xiàn)代建筑無論是商廈還是住宅,都趨向于大面積采光,然而普通玻璃夏季無法阻擋陽光中的熱能向室內(nèi)傳遞,冬季也無法阻擋室內(nèi)熱能的外泄,保持室內(nèi)溫度的代價只能是大量消耗空調(diào)和暖氣的能耗,因此大面積玻璃采光帶來的直接后果是整個建筑能量的極大損失。
實用新型內(nèi)容
針對上述問題,本實用新型提供一種四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃,其具有低輻射性能又具有陽光控制性能,可以滿足現(xiàn)代建筑的需要。
為了實現(xiàn)上述目的,本實用新型的技術(shù)方案如下:
一種四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板,其特征在于,在玻璃基板上依次鍍制有氧化錫層、氧化硅層、氟摻雜氧化錫層、摻銻氧化錫層。
在本實用新型的一個優(yōu)選實施例中,氧化錫層厚度為5~50nm,氧化硅層厚度為5~50nm,氟摻雜氧化錫層厚度為100~400nm?nm,摻銻氧化錫層厚度為100~400nm。
本實用新型的四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃,氧化硅層主要功能是調(diào)節(jié)膜層的顏色與太陽光的透過率;氟摻雜氧化錫層能夠極大的降低玻璃表面的輻射率;摻銻氧化錫層為近紅外(NIR)陽光吸收層。本實用新型具有低輻射性能又具有陽光控制性能,可以滿足現(xiàn)代建筑的需要。
本實用新型的特點可參閱以下較好實施方式的詳細(xì)說明而獲得清楚地了解。
附圖說明
圖1為四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃的局部剖面示意圖。
具體實施方式
為了使本實用新型實現(xiàn)的技術(shù)手段、創(chuàng)作特征、達(dá)成目的與功效易于明白了解,下面結(jié)合具體實施例進(jìn)一步闡述本實用新型。
參見圖1,一種四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板100,在玻璃基板上依次設(shè)置的氧化錫層110、氧化硅層120、氟摻雜氧化錫層130、摻銻氧化錫層140。
該四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃的加工方法如下:在玻璃基板上依次鍍上氧化錫層、氧化硅層、氟摻雜氧化錫層、摻銻氧化錫層。
各膜層的鍍制工藝是:
氧化錫層(SnOx):采用化學(xué)氣相沉積工藝,以二氯二甲基錫或單丁基三氯化錫或四氯化錫為原料,氧氣為氧化劑,通過鍍膜梁在錫槽中高溫反應(yīng),并噴涂于玻璃基板表面,經(jīng)退火處理,形成氧化錫層;氧化錫層厚度為5-50nm,能有效阻止玻璃中堿金屬離子的析出,與玻璃附著力強(qiáng)。
氧化硅層(SiOy):采用化學(xué)氣相沉積工藝,以硅烷、乙烯為原料,氧氣為氧化劑通過鍍膜梁在錫槽中高溫反應(yīng),并噴涂于氧化錫層表面,經(jīng)退火處理,形成氧化硅層;氧化硅層厚度為5-50nm,此為氧化物過渡層,主要功能是調(diào)節(jié)膜層的顏色與太陽光的透過率。
氟摻雜氧化錫層(SnOx:Fy):采用化學(xué)氣相沉積工藝,以二氯二甲基錫或單丁基三氯化錫或四氯化錫、氟化氫原料,氧氣為氧化劑,水為催化劑,通過鍍膜梁在錫槽中高溫反應(yīng),并噴涂于氧化硅層表面,經(jīng)退火處理,形成氟摻雜氧化錫層;氟摻雜氧化錫層厚度為100-400nm,能夠極大的降低玻璃表面的輻射率。
摻銻氧化錫層(SnOx:Sby):采用化學(xué)氣相沉積工藝,以二氯二甲基錫或單丁基三氯化錫或四氯化錫、三氯化銻或三苯基銻為原料,氧氣為氧化劑,水蒸氣為催化劑,通過鍍膜梁在錫槽中高溫反應(yīng),在氟摻雜氧化錫層表面熱解生成摻銻氧化錫層,摻銻氧化錫層的厚度為100-400nm。
下表列出了制出本實用新型的工藝參數(shù)。
四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃的工藝參數(shù)
用上述工藝參數(shù)制出的四層膜系結(jié)構(gòu)的低輻射鍍膜玻璃的光學(xué)性能如下:
鍍膜玻璃的可見光透過率T=40~70%,
可見光玻璃面反射率Rg=8~20%
可見光玻璃面色坐標(biāo)a*值=-3~3
色坐標(biāo)b*值=-2~3
以上顯示和描述了本實用新型的基本原理、主要特征和本實用新型的優(yōu)點。本行業(yè)的技術(shù)人員應(yīng)該了解,本實用新型不受上述實施例的限制,上述實施例和說明書中描述的只是本實用新型的原理,在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下本實用新型還會有各種變化和改進(jìn),這些變化和改進(jìn)都落入要求保護(hù)的本實用新型的范圍內(nèi)。本實用新型要求的保護(hù)范圍由所附的權(quán)利要求書及其等同物界定。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司,未經(jīng)上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團(tuán)股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
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