[實用新型]一種四層膜系結構的低輻射鍍膜玻璃有效
| 申請號: | 201320407876.9 | 申請日: | 2013-07-09 |
| 公開(公告)號: | CN203344423U | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發明(設計)人: | 趙長海;高海山;許浩;魏高峰;江浩 | 申請(專利權)人: | 上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團股份有限公司 |
| 主分類號: | B32B17/06 | 分類號: | B32B17/06;B32B33/00;C03C17/36 |
| 代理公司: | 上海精晟知識產權代理有限公司 31253 | 代理人: | 左祝安 |
| 地址: | 201315 上海市浦東新*** | 國省代碼: | 上海;31 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 四層膜系 結構 輻射 鍍膜 玻璃 | ||
【權利要求書】:
1.一種四層膜系結構的低輻射鍍膜玻璃,包括玻璃基板,其特征在于,在玻璃基板上依次鍍制有氧化錫層、氧化硅層、氟摻雜氧化錫層、摻銻氧化錫層。
2.根據權利要求1所述的四層膜系結構的低輻射鍍膜玻璃,其特征在于,氧化錫層厚度為5~50nm,氧化硅層厚度為5~50nm,氟摻雜氧化錫層厚度為100~400nm?nm,摻銻氧化錫層厚度為100~400nm。
下載完整專利技術內容需要扣除積分,VIP會員可以免費下載。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團股份有限公司,未經上海耀皮工程玻璃有限公司;上海耀皮玻璃集團股份有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320407876.9/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種山地光伏電站選址模型建立的方法
- 下一篇:一種用于模式分類的特征選擇方法





