[實用新型]顯示基板的污染物顆粒監控裝置及快速熱退火系統

有效

• 申請號: 201320370627.7
• 申請日: 2013-06-26
• 公開（公告）號: CN203337511U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 田慧
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G01N15/10
• 分類號: G01N15/10;H01L21/324
• 代理公司: 北京路浩知識產權代理有限公司 11002
• 代理人: 韓國勝

技術領域

本實用新型涉及顯示技術領域，特別涉及一種對顯示基板進行清潔度判斷的污染物顆粒監控裝置及快速熱退火系統。?

背景技術

隨著半導體技術的不斷發展，熱退火的應用也越來越普遍，快速熱退火具有退火效率高，退火時間較短，熱預算較小等特點，在離子注入之后的激活制程中變得尤為重要。另一方面，隨著顯示基板的特征尺寸不斷縮小，器件性能對快速熱退火的要求也越來越高，不僅要求退火溫度和均勻性的控制更準確，也要求裝置內部影響顯示基板性能的污染顆粒越來越少，從而才能提高良率，并減少維護頻率提高產能。?

由于快速熱退火工藝是在高溫條件下進行，比較容易產生污染物顆粒，另外，顯示基板上的水分，有機物等污染物顆粒在高溫條件下也會對顯示基板和設備內腔造成污染，導致產品性能和良率不能得到保證。?

針對以上問題，現有技術包括預清洗和改善軸承中滾軸的材料性能的方法。預清洗主要是顯示基板在進入快速熱退火設備之前進行化學清洗以除去水，有機物等顆粒，但是此方法使得顯示基板在清洗之后的傳送環境中仍然會受到外界環境中的污染，并不能很有效地保證快速熱退火工藝的清潔度。改善軸承中滾軸的材料性能的方法主要是通過使用硬化的陶瓷滾珠等材料減少機械摩擦來控制顆粒的產生，但是在長期摩擦過程中陶瓷滾珠容易導致表面磨損變形，需要定期更換，這就增加了維護成本。最重要的是這兩種方法均不能定量控制污染物顆粒的數量，使得快速熱退火工藝品質得不到保證。?

因此，需要提供一種顯示基板的污染物顆粒監控裝置及快速熱退火系統以解決上述問題。?

實用新型內容

本實用新型所解決的技術問題是提供一種顯示基板的污染物顆粒監控裝置及快速熱退火系統；通過污染物顆粒監測模塊對顯示基板進行清潔度判斷以實現顯示基板高清潔度快速熱退火處理的目的。?

本實用新型的目的是通過以下技術方案實現的：一種顯示基板的污染物顆粒監控裝置，包括：?

污染物顆粒監測模塊，用于檢測并采集污染物顆粒信息的；?

信息處理模塊，用于根據所采集的污染物顆粒信息對顯示基板進行清潔度判斷；所述污染物顆粒監測模塊與所述信息處理模塊連接；?

所述信息處理模塊包括：?

運算編輯單元，用于計算顯示基板清潔度；?

信息接收單元，用于接收反饋信息；?

所述信息接收單元與所述運算編輯單元連接；所述污染物顆粒監測模塊與所述信息接收單元連接。?

進一步地，所述污染物顆粒監測模塊是紅外光譜儀；所述紅外光譜儀與所述信息處理模塊連接。?

進一步地，所述污染物顆粒監測模塊是紫外可見分光光度計；所述紫外可見分光光度計與所述信息處理模塊連接。?

進一步地，所述污染物顆粒監測模塊是質譜儀；所述質譜儀與所述信息處理模塊連接。?

進一步地，所述信息處理模塊還包括：?

指令發送單元，用于發送指令；?

該指令發送單元連接有傳送機構，用于傳送顯示基板；所述指令發送單元與所述運算編輯單元連接。?

進一步地，所述傳送機構上設有位置傳感器，用于檢測顯示基板?傳送位置；該位置傳感器與所述信息接收單元連接。?

一種顯示基板的快速熱退火系統，包括如上述中所述顯示基板的污染物顆粒監控裝置；還包括：?

紫外光處理裝置，用于去除顯示基板上污染物顆粒；?

溫度處理裝置，用于對顯示基板進行快速熱退火處理；?

所述紫外光處理裝置和溫度處理裝置分別與所述信息處理模塊連接。?

進一步地，所述紫外光處理裝置包括紫外光控制模塊，用于控制顯示基板去污；該紫外光控制模塊與所述指令發送單元連接，用于接收所述信息處理模塊發送的指令。?

進一步地，所述溫度處理裝置包括退火控制模塊，用于控制顯示基板熱退火；該退火控制模塊與所述指令發送單元連接，用于接收所述信息處理模塊發送的指令。?

本實用新型與現有技術相比具有以下的優點：?