[實用新型]一種精細納米真空鍍膜設備故障納米高分子抽離保護裝置

有效

• 申請號: 201320357162.1
• 申請日: 2013-06-20
• 公開（公告）號: CN203333757U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 袁懌佳;孔哲人;徐繼先;吳岳謙
• 申請（專利權）人: 派拉綸（上海）納米科技有限公司
• 主分類號: C23C16/00
• 分類號: C23C16/00;C23C16/44
• 代理公司: 上海三和萬國知識產權代理事務所(普通合伙) 31230
• 代理人: 陳偉勇

技術領域

本實用新型涉及工業設備制造和自動化控制領域，具體涉及真空納米鍍膜設備。

背景技術

真空精細鍍膜(Parylene)是一種高分子熱可塑性聚合體，于真空狀態時能做氣相沉淀。運用氣相沉淀的處理技術，可以于物體表面均勻形成膜厚，薄膜的厚度為0.001mm-0.05mm之間。在經過汽化(150℃)與裂解(650℃)的過程后，進入涂裝室中，在室溫下以氣相沉積(CVD)的方式，均勻滲入與涂布在涂裝物的內部隙縫與表面，真空下操作無孔不入效率極佳，不同于沉浸式或噴霧式的涂裝。真空精細鍍膜的優點包括：良好的覆被特性遠優于Epoxy、Urethane、Silicone等涂裝方式，絕緣性良好，且能防潮、防銹。良好的化學特性，能解決酸或堿性物質腐蝕的問題。良好的機械特性，可適應于200℃至-200℃的溫度范圍，最重要的就是它的厚度可由0.001mm至0.05mm。

但是，真空精細鍍膜設備由于停電或者其他故障原因使得設備停止工作，停電時真空泵不運作會造成真空腔壓力回升，在沉積室存在著余料，這些余料在非真空狀態下，受到重力影響，會產生白霧現象，使得被鍍物體表面沉積薄膜不均勻，甚至有些地方未鍍到，造成被鍍物作廢。

實用新型內容

本實用新型目的在于是提供一種精細納米真空鍍膜設備故障納米高分子抽離保護裝置。

為了實現上述目的，本實用新型的技術方案如下：

一種精細納米真空鍍膜設備故障納米高分子抽離保護裝置，包括沉積室、冷凝器、真空泵、中央控制器、汽化室、裂解室、裝料室，其特征在于，所述裝料室通過管路連接所述汽化室，所述汽化室通過管路連接所述裂解室，所述汽化室與所述裂解室之間的管路上設有一控制閥；

所述裂解室通過管路連接所述真空泵，所述裂解室與所述真空泵之間的管路上設有一控制閥；

所述裂解室還通過管路連接所述沉積室，所述沉積室通過管路連接所述冷凝器，所述冷凝器通過管路連接所述真空泵。

一種精細納米真空鍍膜設備故障納米高分子抽離保護裝置，還包括一UPS不間斷電源，所述UPS不間斷電源電連接所述真空泵、所述冷凝器、所述中央控制器。設備停電故障時由UPS供電。

所述汽化室與所述裂解室之間的管路，所述裂解室與所述真空泵之間的管路，共用一個總控制閥，所述總控制閥設有1個出口，所述出口與所述裂解室聯通，所述總控制閥還包括2個進口，分別為第一進口、第二進口，所述第一進口與所述汽化室聯通，第二進口與所述真空泵聯通，所述總控制閥還設有2個閥門，一個位于進口與所述第一進口之間，另一個位于進口與所述第二進口之間。

所述中央控制器連接所述總控制閥、所述裂解室、所述沉積室、所述冷凝器。所述中央控制器控制設備故障后運作和記錄故障前數據參數。所述中央控制器可以設有一存儲模塊，存儲模塊用于記錄故障前后數據參數。

有益效果：當設備在納米高分子材料已開始裂解時發生故障，由UPS不間斷電源啟動，維持冷凝器、真空泵、中央控制器工作，通過中央控制器控制，使控制閥關閉汽化室向裂解室進料，開啟連接真空泵通向裂解室管道閥門，在真空泵的作用下裂解室和沉積室的余料被抽至冷凝器過濾。本實用新型防止了因設備故障造成真空壓力快速回升，導致被鍍物產生白霧現象的功能，防止了被鍍物報廢的問題。

附圖說明

以下結合附圖和具體實施方式來進一步說明本實用新型：

圖1為本實用新型的一種總體示意圖。

具體實施方式

為了使本實用新型實現的技術手段、創作特征、達成目的與功效易于明白了解，下面結合具體圖示，進一步闡述本實用新型。

參見圖1，一種精細納米真空鍍膜設備故障納米高分子抽離保護裝置，包括沉積室1、冷凝器6、真空泵4、中央控制器3、汽化室8、裂解室7、裝料室9，裝料室9通過管路連接汽化室8，汽化室8通過管路連接裂解室7，汽化室8與裂解室7之間的管路上設有一控制閥；裂解室7通過管路連接真空泵4，裂解室7與真空泵4之間的管路上設有一控制閥；裂解室7還通過管路連接沉積室1，沉積室1通過管路連接冷凝器6，冷凝器6通過管路連接真空泵4。

一種精細納米真空鍍膜設備故障納米高分子抽離保護裝置，還包括一UPS不間斷電源5，UPS不間斷電源5電連接真空泵4、冷凝器6、中央控制器3。設備停電故障時由UPS供電。