[實用新型]光掩模清洗機

有效

• 申請號: 201320355807.8
• 申請日: 2013-06-20
• 公開（公告）號: CN203484365U
• 公開（公告）日: 2014-03-19
• 發明（設計）人: 黃峰;辛海峰
• 申請（專利權）人: 無錫華潤微電子有限公司
• 主分類號: B08B3/02
• 分類號: B08B3/02
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

技術領域

本實用新型涉及半導體技術領域，特別是涉及一種光掩模清洗機。?

背景技術

掩模清洗是成品掩模檢測過程中重復次數最多的工序，清洗的目的在于清除表面顆粒，清洗的質量直接影響檢測的結果和效率。?

目前世界各國在半導體器件生產中普遍采用的是Kern于1970年實用新型的RCA標準清洗方法。許多研究人員對RCA標準清洗方法進行了大量研究和改進。自90年代初期，人們開始致力于新型清洗工藝和清洗劑的研究以取代RCA清洗技術。1996年Cady和Varadarajan提出了采用四甲基氫氧化氨[N(CH3)4OH]與羧酸鹽緩沖劑配置的堿性水溶液噴霧清洗法；1997年Jeon和Raghavan提出了利用兆聲波激發臭氧水對硅片進行清洗；1998年Bakker等人提出了用水和水/CO2混合溶液在高溫、高壓下的清洗等等。?

然而現有技術中清洗程序設定復雜，在使用過程中容易出錯；人機界面不直觀，無法清楚顯示當前動作；清洗時間設定不精確，影響清洗效果；結構復雜，維修不方便。?

因此，針對上述技術問題，有必要提供一種光掩模清洗機。?

實用新型內容

有鑒于此，本實用新型的目的在于提供一種光掩模清洗機。?

為了實現上述目的，本實用新型實施例提供的技術方案如下：?

一種光掩模清洗機，所述光掩模清洗機包括去離子水噴射單元、氣體干燥單元、旋轉馬達，所述光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元、氣體干燥單元和旋轉馬達相連的中央控制器和執行控制模塊。?

作為本實用新型的進一步改進，所述中央控制器包括：?

控制芯片，用于控制清洗流程時長；?

DIP開關，用于控制清洗進程；?

電源，與控制芯片和DIP開關相連，用于為中央控制器供電；?

以及若干第一端口，用于和中央控制器外部進行連接。?

作為本實用新型的進一步改進，所述第一端口包括RS232C端口和以太網端口中的一種或多種。?

作為本實用新型的進一步改進，所述執行控制模塊包括：?

與去離子水噴射單元相連的去離子水噴射控制單元；?

與氣體干燥單元相連的氣體干燥控制單元；?

與旋轉馬達相連的旋轉馬達控制單元；?

以及若干第二端口。?

作為本實用新型的進一步改進，所述第二端口包括RS232C端口和以太網端口中的一種或多種。?

作為本實用新型的進一步改進，所述中央控制器上還連接有用于顯示圖形用戶界面的顯示屏。?

本實用新型的有益效果是：本實用新型光掩模清洗機通過顯示屏的GUI界面進行清洗程序的設置、更改和選擇，有助于操作人員對整個清洗程序的監控；執行控制模塊有效的簡化了設置清洗方案流程，提高工作效率；中央控制器為各個步驟提供了更為精確的時長設定。?

附圖說明

為了更清楚地說明本實用新型實施例或現有技術中的技術方案，下面將對實施例或現有技術描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹，顯而易見地，下面描述中的附圖僅僅是本實用新型中記載的一些實施例，對于本領域普通?技術人員來講，在不付出創造性勞動的前提下，還可以根據這些附圖獲得其他的附圖。?

圖1為本實用新型一實施方式中光掩模清洗機的模塊示意圖；?

圖2為本實用新型一實施方式中WinPLC控制器的模塊示意圖；?

圖3為本實用新型一實施方式中DL205控制模塊的模塊示意圖；?

圖4為本實用新型一實施方式中旋轉馬達控制單元的控制電路原理圖。?

具體實施方式

本實用新型公開了一種光掩模清洗機，包括去離子水噴射單元、氣體干燥單元、旋轉馬達，光掩模清洗機還包括與去離子水噴射單元、氣體干燥單元和旋轉馬達相連的中央控制器和執行控制模塊。?

優選地，中央控制器包括：?

控制芯片，用于控制清洗流程時長；?

DIP開關，用于控制清洗進程；?

電源，與控制芯片和DIP開關相連，用于為中央控制器供電；?

以及若干第一端口，用于和中央控制器外部進行連接。?

優選地，第一端口包括RS232C端口和以太網端口中的一種或多種。?

優選地，執行控制模塊包括：?

與去離子水噴射單元相連的去離子水噴射控制單元；?

與氣體干燥單元相連的氣體干燥控制單元；?

與旋轉馬達相連的旋轉馬達控制單元；?

以及若干第二端口。?