[實用新型]一種等離子體刻蝕設備的腔室內襯有效
| 申請號： | 201320335702.6 | 申請日： | 2013-06-08 |
| 公開（公告）號： | CN203481181U | 公開（公告）日： | 2014-03-12 |
| 發明（設計）人： | 張欽亮;平志韓;蘇靜洪;王謨;祝啟蒙 | 申請（專利權）人： | 天通吉成機器技術有限公司 |
| 主分類號： | H01J37/32 | 分類號： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 浙江杭州金通專利事務所有限公司 33100 | 代理人： | 趙芳;黃芳 |
| 地址： | 314400 浙江省嘉*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 等離子體 刻蝕 設備 內襯 | ||
【權利要求書】：
1.等離子體刻蝕設備的腔室內襯，其特征在于：包括圓筒狀的本體，本體上設有取送待刻蝕晶片的傳送片口，本體的外壁與等離子刻蝕設備的反應腔室適配，本體底部設有一圈向內延伸的環形底板，環形底板與待刻蝕晶片的位置匹配，環形底板上均勻地分布有勻流槽孔；本體的頂部設有與反應腔室連接的固定法蘭。
2.如權利要求1所述的等離子體刻蝕設備的腔室內襯，其特征在于：反應腔室一側設有抽真空室，內襯底板分隔所述的反應腔室和抽真空室，抽真空室與抽真空泵連接。
3.如權利要求1或2所述的等離子體刻蝕設備的腔室內襯，其特征在于：勻流槽由呈同心圓排布的槽孔組成，同一個圓周上等間隔地分布有多個槽孔。
4.如權利要求3所述的等離子體刻蝕設備的腔室內襯，其特征在于：槽孔為圓弧形，槽孔的寬度約為1.5mm，圓弧形槽孔的圓心角小于或等于20°。
5.如權利要求4所述的等離子體刻蝕設備的腔室內襯，其特征在于：傳送片口高出環形底板的頂面。
6.如權利要求5所述的等離子體刻蝕設備的腔室內襯，其特征在于：外壁上開設有觀察孔。
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