[實(shí)用新型]一種真空鍍膜裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201320318706.3 | 申請(qǐng)日: | 2013-06-04 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN203393222U | 公開(kāi)(公告)日: | 2014-01-15 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 金弼 | 申請(qǐng)(專(zhuān)利權(quán))人: | 金弼 |
| 主分類(lèi)號(hào): | C23C14/35 | 分類(lèi)號(hào): | C23C14/35;C23C14/56;C23C14/50 |
| 代理公司: | 深圳市順天達(dá)專(zhuān)利商標(biāo)代理有限公司 44217 | 代理人: | 郭偉剛 |
| 地址: | 518053 廣東省*** | 國(guó)省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 真空鍍膜 裝置 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本實(shí)用新型涉及鍍膜裝置領(lǐng)域,尤其是涉及一種真空鍍膜裝置。
背景技術(shù)
真空鍍膜裝置廣泛用于制造顯示器用透明導(dǎo)電膜和/或功能膜玻璃、光學(xué)用功能膜玻璃等,這些裝置已經(jīng)發(fā)展了幾十年,從早期的簡(jiǎn)單裝置發(fā)展到目前大型自動(dòng)化裝置。顯示器用透明導(dǎo)電膜玻璃鍍膜裝置大部分是采用立式連續(xù)磁控濺射鍍膜線,其真空腔體往往是長(zhǎng)度幾十米的真空隧道,寬度不足半米,而高度一般在一米以上,玻璃基板豎立掛在專(zhuān)用傳送車(chē)(Carrier,一種掛玻璃的小車(chē),豎立的長(zhǎng)方形結(jié)構(gòu),底部與傳動(dòng)輥接觸)上一同在傳送輥上移動(dòng),所以叫立式鍍膜線。在真空里即使極輕微的羽毛都和鋼球一樣按自由落體方式落下,所以玻璃基板豎立起來(lái)傳送,是為了最大限度地減少真空腔體內(nèi)部塵埃落到其表面,減小塵埃對(duì)鍍膜玻璃品質(zhì)的影響。同時(shí)為了導(dǎo)電膜的性質(zhì)最佳化還要加熱玻璃基板,一般設(shè)有加熱器。陰極放置在真空腔體側(cè)板上,其發(fā)生磁控濺射的表面朝向真空一側(cè)且與腔體側(cè)板平行,當(dāng)掛有玻璃基板的傳送車(chē)移動(dòng)到陰極位置時(shí),陰極靶材表面濺射出來(lái)的原子附著在玻璃上,形成透明導(dǎo)電膜和其它功能膜。
目前,大多數(shù)液晶顯示器、有機(jī)發(fā)光顯示器、電阻式觸摸屏、電容式觸摸屏都用ITO(銀錫合金氧化物)鍍膜玻璃,而該鍍膜玻璃目前皆采用真空鍍膜裝置中的立式連續(xù)磁控濺射鍍膜線生產(chǎn)。然而近期研發(fā)的未來(lái)將大發(fā)展的所謂OGS(One?Glass?Solution)電容式觸摸屏玻璃的ITO鍍膜遇到了難題。以往的ITO玻璃都是較大的矩形玻璃,比如370mm×470mm到400mm×500mm矩形玻璃,在傳統(tǒng)的立式連續(xù)磁控濺射鍍膜線上鍍膜時(shí)每個(gè)傳送車(chē)上掛此類(lèi)玻璃基板6片到8片,并且按產(chǎn)能要求以40秒至90秒的節(jié)拍完成一個(gè)傳送車(chē)的掛片和卸片,這對(duì)兩名熟練操作員是可行的,然而在這種傳統(tǒng)鍍膜裝置上的同樣大的傳送車(chē)上掛OGS玻璃基板就相當(dāng)困難。OGS玻璃大多用在智能手機(jī)上,它是大小在40mm×100mm到60mm×150mm之間、角部已經(jīng)倒圓滑、邊部精細(xì)研磨成型的小玻璃,即使OGS玻璃用在掌上電腦上也不過(guò)185mm×240mm左右,按照推算這種小玻璃在傳統(tǒng)鍍膜設(shè)備傳送車(chē)上可掛的數(shù)量在42片到480片之多,目前在傳統(tǒng)裝置上使用的“四個(gè)凹槽固定”方式很難把這么多的玻璃基板掛上,40秒至90秒的節(jié)拍也無(wú)法實(shí)現(xiàn)。所謂“四個(gè)凹槽固定”方式是這樣的,約1300mm高、1500mm長(zhǎng)的豎立的平面狀傳送車(chē)上設(shè)置多個(gè)橫梁,下橫梁上設(shè)兩個(gè)向上的凹槽,上橫梁上設(shè)兩個(gè)向下的與彈片連接的凹槽,玻璃基板的下邊插入下凹槽,玻璃基板的上邊插入上凹槽,每片玻璃基板至少需要上下各兩個(gè)凹槽,靠下凹槽的支撐和上凹槽的彈性下壓豎直掛上玻璃基板。假如是480片玻璃基板就至少需要1920個(gè)凹槽,這種結(jié)構(gòu)上很麻煩,操作上困難,節(jié)拍上延長(zhǎng)很多,品控上帶來(lái)難題。
實(shí)用新型內(nèi)容
本實(shí)用新型的目的是提供一種新型的真空鍍膜裝置,解決上述傳統(tǒng)立式連續(xù)磁控濺射鍍膜線不能適應(yīng)高效加工OGS鍍膜玻璃的難題,不僅提高了OGS玻璃鍍膜的高效性與合理性,同時(shí)又能保證真空腔體內(nèi)的塵埃不會(huì)落在玻璃待鍍膜表面上。
本實(shí)用新型解決技術(shù)問(wèn)題所采用的技術(shù)方案是:一種真空鍍膜裝置,用于對(duì)基板連續(xù)磁控濺射鍍膜,包括內(nèi)側(cè)長(zhǎng)度與寬度大于高度的臥式隧道狀結(jié)構(gòu)的真空腔體、多個(gè)水平置于所述真空腔體內(nèi)的矩形托盤(pán)、分別位于所述托盤(pán)兩側(cè)用于支撐所述托盤(pán)且?guī)?dòng)所述托盤(pán)沿著所述真空腔體長(zhǎng)度方向移動(dòng)的成對(duì)傳動(dòng)輥以及設(shè)置在所述真空腔體底部的磁控濺射陰極,所述托盤(pán)中間區(qū)域鏤空為矩形,使落于所述托盤(pán)上的基板待鍍膜表面向下裸露,所述陰極發(fā)生磁控濺射的表面位于所述真空腔體內(nèi)且向上,對(duì)所述托盤(pán)鏤空矩形區(qū)域裸露的基板下表面磁控濺射鍍膜。
在本實(shí)用新型的真空鍍膜裝置中,所述傳動(dòng)輥包括密閉地穿過(guò)所述真空腔體兩側(cè)壁的傳動(dòng)軸、與所述傳動(dòng)軸在所述真空腔體內(nèi)部連接的圓柱輥以及與所述傳動(dòng)軸在所述真空腔體外部連接的皮帶輪,所述傳動(dòng)軸與所述圓柱輥采用易拆卸結(jié)構(gòu)緊固連接,所述托盤(pán)的兩端分別落在兩側(cè)所述圓柱輥上。
在本實(shí)用新型的真空鍍膜裝置中,所述傳動(dòng)輥在所述真空腔體內(nèi)的數(shù)量至少15對(duì),并且沿著所述真空腔體長(zhǎng)度方向間隔設(shè)置。
在本實(shí)用新型的真空鍍膜裝置中,所述托盤(pán)包括金屬板,所述金屬板的四周設(shè)有加強(qiáng)筋,所述金屬板中間區(qū)域至少鏤空出一個(gè)與所述金屬板周邊分別平行的矩形,距離每個(gè)所述鏤空矩形四個(gè)邊緣2毫米至20毫米處設(shè)有定位條。
在本實(shí)用新型的真空鍍膜裝置中,所述托盤(pán)的加強(qiáng)筋由所述金屬板的四周邊折彎90度或90度以上構(gòu)成,或者由垂直地焊接于所述金屬板四周且距離邊緣2毫米至10毫米的長(zhǎng)方形金屬條構(gòu)成。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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