[實用新型]一種下基板定位設備和真空對盒系統

有效

• 申請號: 201320306156.3
• 申請日: 2013-05-30
• 公開（公告）號: CN203311122U
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 潘明超;文斌;徐立元
• 申請（專利權）人: 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方顯示技術有限公司
• 主分類號: G02F1/1333
• 分類號: G02F1/1333;H01L21/68
• 代理公司: 北京天昊聯合知識產權代理有限公司 11112
• 代理人: 彭瑞欣;陳源

技術領域

本實用新型屬于液晶面板制造技術領域，具體涉及一種下基板定位設備和真空對盒系統。

背景技術

在顯示器，例如液晶顯示器（Liquid?Crystal?Display，LCD）制造過程中，真空對盒是對盒工序的核心工藝，所謂對盒是指在近真空環境下，將構成LCD的上基板和下基板貼合在一起，以形成液晶面板。

目前，通常通過真空對盒設備進行真空對盒工藝。真空對盒設備包括：上基臺、下基臺、吸附栓、上基板和下基板，其中上基臺通過其上的吸附栓吸附上基板，下基臺通過其上的吸附栓吸附下基板。在進行真空對盒時，需要上基臺吸附上基板，下基臺吸附下基板，然后將上基板移動到下基板的正上方，上基板向下移動，從而實現上基板和下基板的對盒。在受取上基板時，機械手將上基板送入真空對盒設備內，上基臺的吸附栓下降，利用真空吸附方式吸附基板，機械手抽出，上基臺的吸附栓上升到預定位置，上基臺利用如靜電吸附或其他吸附將上基板吸附在基臺上。在下基板受取過程中，機械手將基板放在下機臺的吸附栓上后直接抽出，下吸附栓下降到到預定位置，下基臺利用如靜電吸附或其他吸附方式將下基板吸附在基臺上，至此，完成下基板的受取過程。

發明人發現現有技術中至少存在如下問題：在下基板的受取過程中，當機械手搬送下基板時，下基板會出現偏離，由于對盒設備的精度較高，當下基板偏離較大時，將不能實現自動對位，造成設備報警，此時需要手動調整下基板以將下基板調整至正確的位置，但是這種手動調整的方式會影響產品質量和產線的生產節拍，特別是當下基板偏離很大，而手動調整也不能解決時，只能對下基板進行廢棄處理，這會影響產量，進而降低了生產效率。

實用新型內容

本實用新型提供一種下基板定位設備和真空對盒系統，其可以解決在下基板受取偏離時，可以進行正常生產，同時降低對機械手的精度要求，提高機械手運轉速度，從而提高產線的生產節拍，進而提高產量。

為實現上述目的，本實用新型技術問題提供了一種下基板定位設備，包括：基座和對下基板進行定位的在所述基座上對角設置的至少二個定位裝置；

所述定位裝置設置于所述基座上。

優選地，所述定位裝置包括：對所述下基板進行定位的定位模塊和驅動所述定位模塊以使所述定位模塊移動至預定位置的驅動模塊；

所述驅動模塊設置于所述基座上；

所述定位模塊連接于所述驅動模塊上。

優選地，所述定位裝置的數量為二個。

優選地，所述基座的形狀為方環狀，二個所述定位裝置分別位于所述基座相對的兩個邊角處。

優選地，所述驅動模塊包括驅動所述定位模塊水平運動的水平驅動子模塊和驅動所述定位模塊垂直運動的垂直驅動子模塊；

所述垂直驅動子模塊設置于所述基座上，所述水平驅動子模塊設置于所述垂直驅動子模塊上，所述定位模塊連接于所述垂直驅動子模塊上。

優選地，所述水平驅動子模塊為水平驅動氣缸，所述垂直驅動子模塊為垂直驅動氣缸。

優選地，所述下基板定位設備還包括：檢測單元，所述水平驅動氣缸和所述垂直驅動氣缸的開始位置和目標位置通過檢測單元并反饋。

優選地，所述定位模塊包括：定位托和定位夾，所述定位夾設置于所述定位托上。

為實現上述目的，本實用新型技術問題提供了一種真空對盒系統，包括：下基板定位設備，所述下基板定位設備采用上述下基板定位設備。

本實用新型提供的一種下基板定位設備和真空對盒系統，通過利用設置基座和設置于所述基座上對下基板進行定位的至少二個對角設置的定位裝置，定位裝置中的驅動模塊和定位模塊對下基板進行預定位，其可以有效解決在下基板受取偏離時，可以進行正常生產，同時降低對機械手的精度要求，提高機械手運轉速度，從而提高產線的生產節拍，進而提高產量。

附圖說明

圖1為本實用新型實施例一的一種下基板定位設備的結構示意圖；

圖2為實施例一中下基板定位設備的局部結構示意圖；

圖3為實施例二中一種真空對盒系統示意圖。

具體實施方式

為使本領域的技術人員更好地理解本實用新型的技術方案，下面結合附圖對本實用新型提供的一種下基板定位設備和真空對盒系統進行詳細描述。