[實用新型]用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備

有效

• 申請號: 201320303370.3
• 申請日: 2013-05-30
• 公開（公告）號: CN203411602U
• 公開（公告）日: 2014-01-29
• 發明（設計）人: 劉瑋;王守國
• 申請（專利權）人: 劉瑋;王守國
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，尤其是指鐘罩腔室固定不動，其內設有多個靶電極，而鐘罩腔室下放的圓形工件臺可以上下移動的專門用于圓筒內壁鍍膜的裝置。?

背景技術

磁控濺射是在真空中利用高能粒子轟擊靶表面，使被轟擊濺射出的靶離子沉積在基片上。濺射時，氣體被電離之后，氣體離子在電場的作用下飛向電極靶材，并以高能量轟擊靶表面，使靶材料發生濺射，濺射出的靶粒子沉積在襯底上。磁控濺射包括多種類型，各有不同的工作原理和應用對象。?

目前我們所見到的磁控濺射設備，多是用于對工件外表面的鍍膜，針對圓筒管內壁的專門設備目前市場上尚未見到。而中罩式真空鍍膜設備，通常的做法是上下移動鐘罩，工件臺固定不動。對體積和重量較大的鐘罩式采用上下移動的方式顯然就不適合了。?

鑒于尚未有針對圓筒管內壁的鍍膜設備，本實用新型是采用鐘罩腔室固定不動，而工件臺可以上下移動的設計方式，當工件臺移動至最高位置時，工作臺與鐘罩腔室形成真空密閉，這時靶電極是正好插入在圓筒內部的中心位置。本使用新型的優點是：(1)鐘罩腔室固定不動，工件臺上下移動，有利于鐘罩腔室的固定和安裝，減少施工難度。(2)襯底和靶極之間的電場可以提高濺射效率，提高薄膜的致密度以及與襯底材料的結合力。?

實用新型內容

考慮到現有技術所存在的問題，本實用新型的目的在于提供一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，包括一個內設多個靶電極的鐘罩式真空腔體、可以上下移動的工件臺、電源、真空系統等，其特征是：一個鐘罩式真空腔固定在一個支架上，其真空腔內設有多個靶電極，在鐘罩式真空室的下方，放置一個可以上下移動的圓形工件臺，在該工件臺上設有圓筒工件定位支架，當把工件臺升起后，該工件臺與鐘罩式真空室形成真空密封，這時靶電極是插放在圓筒工件的中心位置，在靶電極接通電源后，在靶電極周圍形成濺射等離子體，并濺射出?

一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，包括一個內設多個靶電極的鐘罩式真空腔體、可以上下移動的工件臺、電源、真空系統等，其特征是：一個鐘罩式真空腔是固定在一個門形支架的中部位置，該鐘罩式真空腔的側面設有真空抽氣窗口和觀察窗口，其上方設有固定靶電極的固定窗口。?

一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，包括一個內設多個靶電極的鐘罩式真空腔體、可以上下移動的工件臺、電源、真空系統等，其特征是：在鐘罩式真空腔內設有多個靶電極，該多個靶電極通過絕緣材料與真空罩絕緣，該多個靶電極可以與射頻電源，也可以與高頻電源，以及與直流電源連接，在靶的內部放置磁場。?

一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，包括一個內設多個靶電極的鐘罩式真空腔體、可以上下移動的工件臺、電源、真空系統等，其特征是：在鐘罩式真空腔室的下方，放置一個可以上下移動的圓形工件平臺，在該工件平臺上設有多個固定圓筒工件的定位支架。?

一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，包括一個內設多個靶電極的鐘罩式真空腔體、可以上下移動的工件臺、電源、真空系統等，其特征是：在工件平臺上升到最高位置時，工件平臺與鐘罩式真空腔體形成真空密閉，這時靶電極是正好插放在圓筒工件的中部位置。?

一種用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，包括一個內設多個靶電極的鐘罩式真空腔體、可以上下移動的工件臺、電源、真空系統等，其特征是：在工件臺升起后，靶電極是插放在圓筒工件的中心位置，在靶電極接通電源后，在靶電極周圍形成濺射等離子體，并濺射出靶上的粒子沉積在圓筒工件的內表面，在靶電極和圓筒工件之間可以施加偏壓電場增加沉積層的結合力。?

附圖說明

下面結合附圖對本實用新型進行進一步的描述，其中：?

圖1為本發明實施例：打開鍍膜腔室，放置工件時的設備結構示意圖；?

圖2為本發明實施例：關閉鍍膜腔室，開始鍍膜時的設備結構示意圖。?

具體實施方式：

下面參照附圖，結合具體的實施例對本實用新型進行詳細的描述。?

首先，參閱圖1和圖2，圖1打開鍍膜腔室，放置工件時的設備結構示意圖；圖2是關閉鍍膜腔室，開始鍍膜時的設備結構示意圖。兩個圖所示為用于圓筒內壁的鐘罩式鍍膜設備，它是一個鐘罩式真空腔室101是固定在一個門形支架100的中部位置，該門形支架是通過角?鐵108與地面固定，在該門形支架上設有加強支撐桿109；該鐘罩式真空腔101的側面設有真空抽氣窗口111和觀察窗口112，其上方設有固定靶電極的固定窗口113，以及真空機測量窗口107。?