[實用新型]真空磁控濺射用旋轉陰極靶

有效

• 申請號: 201320302774.0
• 申請日: 2013-05-29
• 公開（公告）號: CN203320120U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 肖世文;黃建威;肖盛榮
• 申請（專利權）人: 廣州市尤特新材料有限公司
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 廣州嘉權專利商標事務所有限公司 44205
• 代理人: 譚英強

技術領域

本實用新型涉及一種真空磁控濺射用旋轉陰極靶。

背景技術

目前最常用的制備薄膜的方法是真空磁控濺射法。真空磁控濺射法是在高真空充入適量的氬氣，在陰極（柱狀靶或平面靶）和陽極（鍍膜室壁）之間施加幾百K的直流電壓，在鍍膜室內產生磁控型異常輝光放電，使氬氣發生電離。氬離子被陰極加速并轟擊陰極靶表面，將靶材表面原子濺射出來沉積在基底表面上形成薄膜。磁控濺射法具有鍍膜層與基材的結合力強、鍍膜層致密、均勻等優點。

典型的濺射用旋轉陰極包括一圓柱狀旋轉管，該旋轉管的外表面涂覆有一層靶材料層。在這種旋轉陰極的制造過程中，靶材料一般通過噴射而涂覆在旋轉管上，因此旋轉管與靶材料可以看成是一體的，當靶材料耗竭后旋轉管也就失去了作用，若是在旋轉管上重新噴射靶材料其加工成本也是相當的昂貴。

實用新型內容

為了克服上述技術問題，本實用新型的目的在于提供一種拆裝方便、有利于降低成本的真空磁控濺射用旋轉陰極靶。

本實用新型所采用的技術方案是：

一種真空磁控濺射用旋轉陰極靶，包括管狀的襯管和套設在襯管外壁上并隨襯管旋轉的靶材，所述襯管外壁上設有外螺紋，所述靶材內壁設有與外螺紋配合連接的內螺紋。

作為上述技術方案的進一步改進，所述靶材的材質為純度不小于99.9%的銀。

作為上述技術方案的進一步改進，所述襯管的材質為不銹鋼304或不銹鋼316。

作為上述技術方案的進一步改進，所述襯管兩端的外壁上分別設有用于容納卡簧的凹槽，所述凹槽呈環狀。

作為上述技術方案的進一步改進，所述靶材的外徑為110mm～190mm，所述靶材的內徑為90mm～170mm。

作為上述技術方案的進一步改進，所述襯管的外徑為90mm～170mm，所述襯管的內徑為70mm～150mm。

本實用新型的有益效果是：本實用新型襯管外壁設有外螺紋，靶材內壁設有內螺紋，兩者通過螺紋連接后，使得靶材的安裝非常方便，而且當靶材將要耗竭而無法繼續使用時，亦容易從襯管中分離以回收利用，未使用的靶材也就能旋出襯管再加工使用，也使得襯管可以重復利用，大大節省了材料的損耗，節省了成本。

附圖說明

下面結合附圖和實施方式對本實用新型進一步說明。

圖1是本實用新型的結構示意圖；

圖2是圖1中A部分的放大示意圖。

具體實施方式

如圖1和圖2所示，一種真空磁控濺射用旋轉陰極靶，包括管狀的襯管1和套設在襯管1外壁上并隨襯管1旋轉的靶材2。襯管1包括兩個端部和一個中間部，在兩個端部的外壁上分別設有用于容納卡簧的凹槽3，凹槽3呈環狀，外置的卡簧經連接動力頭夾緊凹槽3帶動襯管1旋轉。在襯管1中間部外壁上設有外螺紋，靶材2內壁設有與外螺紋配合連接的內螺紋，較好的是用梯形螺紋連接，當然，三角螺紋連接也是可以采納的方式。

襯管1的材質為不銹鋼304或不銹鋼316，具有較高的結構強度，同時也能滿足磁場的要求。

較優的，靶材2的外徑為110mm～190mm，最優的為160mm；靶材2的內徑為90mm～170mm，最優的為133mm；襯管1的外徑應與靶材2的內徑相同，而襯管1的內徑范圍為70mm～150mm，最優的為125mm。

在本實施例中，靶材2的材質為純度不小于99.9%的銀。

本實施例中的真空磁控濺射用陰極靶的加工方法如下：將純度≥99.99%的銀料熔煉、澆鑄成錠，將鑄錠擠壓成管狀坯，進行分割，或者鍛、軋成管狀坯，再內螺紋加工與襯管1（外螺紋）進行連接；或者將鑄錠擠壓成管狀直接內螺紋加工與襯管1（外螺紋）進行連接。

由于平面銀靶利用率只有30%左右，而本實施例中的旋轉陰極銀靶則有70%以上的靶材利用率，大大節約了原料的成本。而且本實施例中靶材直接由銀料熔煉、澆鑄、擠壓成型，其同質均勻更好，由于靶材與襯管采用的螺紋連接的方式，靶材安裝更方便，回收拆分更簡便，襯管還可以多次使用。

以上所述只是本實用新型優選的實施方式，其并不構成對本實用新型保護范圍的限制。