[實(shí)用新型]真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320302774.0
• 申請(qǐng)日: 2013-05-29
• 公開（公告）號(hào): CN203320120U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 肖世文;黃建威;肖盛榮
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 廣州市尤特新材料有限公司
• 主分類號(hào): C23C14/35
• 分類號(hào): C23C14/35
• 代理公司: 廣州嘉權(quán)專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 44205
• 代理人: 譚英強(qiáng)

1.一種真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶，其特征在于：包括管狀的襯管(1)和套設(shè)在襯管(1)外壁上并隨襯管(1)旋轉(zhuǎn)的靶材(2)，所述襯管(1)外壁上設(shè)有外螺紋，所述靶材(2)內(nèi)壁設(shè)有與外螺紋配合連接的內(nèi)螺紋。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶，其特征在于：所述靶材(2)的材質(zhì)為純度不小于99.9%的銀。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶，其特征在于：所述襯管(1)的材質(zhì)為不銹鋼304或不銹鋼316。

4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶，其特征在于：所述襯管(1)兩端的外壁上分別設(shè)有用于容納卡簧的凹槽(3)，所述凹槽(3)呈環(huán)狀。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶，其特征在于：所述靶材(2)的外徑為110mm～190mm，所述靶材(2)的內(nèi)徑為90mm～170mm。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的真空磁控濺射用旋轉(zhuǎn)陰極靶，其特征在于：所述襯管(1)的外徑為90mm～170mm，所述襯管(1)的內(nèi)徑為70mm～150mm。