[實用新型]電子槍坩堝的水冷裝置有效
| 申請號: | 201320287213.8 | 申請日: | 2013-05-23 |
| 公開(公告)號: | CN203307424U | 公開(公告)日: | 2013-11-27 |
| 發明(設計)人: | 袁永旭 | 申請(專利權)人: | 北京北儀創新真空技術有限責任公司 |
| 主分類號: | C23C14/30 | 分類號: | C23C14/30 |
| 代理公司: | 北京凱特來知識產權代理有限公司 11260 | 代理人: | 鄭立明;趙鎮勇 |
| 地址: | 102600 北京市大興區*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電子槍 坩堝 水冷 裝置 | ||
1.一種電子槍坩堝的水冷裝置,其特征在于,包括:
坩堝、坩堝托、出水口和進水孔;其中,
所述坩堝設置在坩堝托上,坩堝與坩堝托之間設成環形水道,所述環形水道沿所述坩堝外壁內設置;
所述出水口設置在所述坩堝托的中間部位,與所述環形水道的出水口連通;
所述進水孔設置在所述坩堝托的邊緣處,與所述環形水道連通。
2.根據權利要求1所述的裝置,其特征在于,所述進水孔為多個,沿所述坩堝托的邊緣處均勻分布,各進水孔均與所述環形水道連通。
3.根據權利要求2所述的裝置,其特征在于,所述進水孔為三個。
4.根據權利要求1至3任一項所述的裝置,其特征在于,還包括:隔水板,設置在與所述出水口連接的所述環形水道內,使連接所述出水口的一段環形水道的出水處與所述坩堝的頂壁相接觸。
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