[實(shí)用新型]主驅(qū)動(dòng)拋光基盤的浮離拋光裝置

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320286921.X
• 申請(qǐng)日: 2013-05-22
• 公開（公告）號(hào): CN203266381U
• 公開（公告）日: 2013-11-06
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 張利;金明生;單曉杭;孫建輝
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 浙江工業(yè)大學(xué)
• 主分類號(hào): B24B37/00
• 分類號(hào): B24B37/00;B24B37/34
• 代理公司: 杭州斯可睿專利事務(wù)所有限公司 33241
• 代理人: 王利強(qiáng)

技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及一種拋光裝置，尤其是一種懸浮拋光裝置。

背景技術(shù)

流體拋光現(xiàn)已成為獲取超光滑表面的重要手段之一，與剛性接觸式拋光相比，磨粒與工件表面的接觸狀態(tài)為軟性接觸，既可通過提升磨粒加工的等高性獲取更低粗糙度的超光滑表面，又可改善磨粒與工件表面的接觸狀態(tài)獲得少無損傷的加工效果。

懸浮拋光與目前常見的流體拋光具有較明顯的優(yōu)勢(shì)。如專利申請(qǐng)?zhí)枮?01210140631.4的“可主動(dòng)驅(qū)動(dòng)的懸浮基盤拋光裝置”就公布了一種使加工變質(zhì)層厚度變小，同時(shí)又能獲得較高的表面質(zhì)量的可主動(dòng)驅(qū)動(dòng)的懸浮基盤拋光裝置，該裝置是在專利申請(qǐng)?zhí)枮?00910153716.4的“主動(dòng)驅(qū)動(dòng)研磨裝置的修正環(huán)驅(qū)動(dòng)機(jī)構(gòu)”基礎(chǔ)上，采用懸浮基盤在圓周上設(shè)有楔形槽的設(shè)計(jì)，運(yùn)用流體力學(xué)現(xiàn)象和粉末作用，使得拋光顆粒和工件表面軟性接觸。但經(jīng)過試驗(yàn)證明，該設(shè)備存在以下問題：

該裝置是通過主動(dòng)驅(qū)動(dòng)裝置驅(qū)動(dòng)修正環(huán)，懸浮基盤卡在修正環(huán)內(nèi)，由于懸浮基盤與修正環(huán)之間僅存在摩擦約束，高速旋轉(zhuǎn)的懸浮基盤轉(zhuǎn)動(dòng)不平穩(wěn)就會(huì)造成碰撞、卡死、傾斜等現(xiàn)象，從而影響拋光的表面質(zhì)量。

實(shí)用新型內(nèi)容

為了克服已有懸浮研磨拋光設(shè)備中存在的研磨不平穩(wěn)、表面質(zhì)量不高的不足，本實(shí)用新型提供一種采用液體潤滑消除摩擦和碰撞、研磨平穩(wěn)、表面損傷小、質(zhì)量高的主驅(qū)動(dòng)拋光基盤的浮離拋光裝置。

本實(shí)用新型解決其技術(shù)問題所采用的技術(shù)方案是：

一種主驅(qū)動(dòng)拋光基盤的浮離拋光裝置，包括機(jī)座、懸浮基盤和研磨盤，所述懸浮基盤與加壓組件連接，所述研磨盤通過主驅(qū)動(dòng)器繞固定中心軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，所述懸浮基盤與研磨盤相對(duì)面沿圓周方向設(shè)有楔形槽和用以放置待加工工件的加工工位，所述楔形槽中充滿研磨液，所述楔形槽和加工工位間隔設(shè)置，所述懸浮基盤套裝在研磨盤內(nèi)且與研磨盤內(nèi)壁有間隙，所述懸浮基盤中心有進(jìn)料腔，所述懸浮基盤沿圓周方向均布徑向通孔且與進(jìn)料腔相通，進(jìn)料管道通過儲(chǔ)料蓋與懸浮基盤連接，所述研磨盤內(nèi)壁底面鋪有拋光布，所述拋光布上開有供研磨液流出的通孔，所述研磨盤底部有出料口，所述通孔與所述出料口連通。

進(jìn)一步，所述加壓組件為砝碼，所述砝碼加壓在懸浮基盤上。

更進(jìn)一步，所述進(jìn)料管道采用旋轉(zhuǎn)供料裝置。

本實(shí)用新型的技術(shù)構(gòu)思為：研磨液通過供料管道進(jìn)入進(jìn)料腔，進(jìn)料腔內(nèi)的高壓研磨液通過徑向通孔在懸浮基盤外圓柱面和研磨盤之間形成潤滑膜，減少了兩者之間存在的接觸摩擦力，避免了碰撞、卡死等現(xiàn)象。

懸浮基盤與研磨盤相對(duì)面沿圓周方向設(shè)有多個(gè)楔形槽，研磨液沿著懸浮基盤外圓柱噴出，懸浮基盤與研磨盤之間充滿拋光液，即所述楔形槽中充滿拋光液，加工工件貼于懸浮基盤帶有楔形槽的平面上且不影響楔形槽，研磨盤隨主軸旋轉(zhuǎn)，研磨盤內(nèi)壁底面鋪有拋光布，懸浮基盤與研磨盤之間存在相對(duì)運(yùn)動(dòng)，楔形槽產(chǎn)生的液體動(dòng)壓使得基盤浮起一個(gè)高度H，從而拋光液中的顆粒在拋光工件時(shí)沒有強(qiáng)力的剛性接觸而是變?yōu)閽伖忸w粒的軟性碰撞，進(jìn)而減小了工件的損傷。多余的研磨液沿著研磨盤底部的出料口流出。

本實(shí)用新型的有益效果主要表現(xiàn)在：采用液體潤滑消除摩擦和碰撞、研磨平穩(wěn)、表面損傷小、質(zhì)量高。

附圖說明

圖1是圖1是一種懸浮動(dòng)壓拋光裝置示意圖。

圖2是圖1的A-A剖視圖。

具體實(shí)施方式

下面結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步描述。

參照?qǐng)D1和圖2，一種主驅(qū)動(dòng)拋光基盤的浮離拋光裝置，包括機(jī)座、懸浮基盤3和研磨盤1，所述懸浮基盤3與加壓組件連接，所述研磨盤1通過主驅(qū)動(dòng)器繞固定中心軸線轉(zhuǎn)動(dòng)，所述懸浮基盤3與研磨盤1相對(duì)面沿圓周方向設(shè)有楔形槽12和用以放置待加工工件13的加工工位，所述楔形槽12中充滿研磨液10，所述楔形槽13和加工工位間隔設(shè)置，所述懸浮基盤3套裝在研磨盤1內(nèi)且與研磨盤內(nèi)壁有間隙，所述懸浮基盤3中心有進(jìn)料腔6，所述懸浮基盤3沿圓周方向均布徑向通孔4且與進(jìn)料腔6相通，進(jìn)料管道8通過儲(chǔ)料蓋7與懸浮基盤3連接，所述研磨盤1內(nèi)壁底面鋪有拋光布2，所述拋光布2上開有供研磨液流出的通孔，所述研磨盤1底部有出料口11，所述通孔與所述出料口11連通。

進(jìn)一步，所述加壓組件為砝碼5，所述砝碼5加壓在懸浮基盤3上。加工工件13貼于懸浮基盤3帶有楔形槽的平面上且不影響楔形槽。所述供料管道8可采用旋轉(zhuǎn)供料裝置，不影響懸浮基盤3的轉(zhuǎn)動(dòng)。