[實用新型]主驅(qū)動拋光基盤的浮離拋光裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320286921.X | 申請日: | 2013-05-22 |
| 公開(公告)號: | CN203266381U | 公開(公告)日: | 2013-11-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張利;金明生;單曉杭;孫建輝 | 申請(專利權(quán))人: | 浙江工業(yè)大學 |
| 主分類號: | B24B37/00 | 分類號: | B24B37/00;B24B37/34 |
| 代理公司: | 杭州斯可睿專利事務所有限公司 33241 | 代理人: | 王利強 |
| 地址: | 310014 浙江省*** | 國省代碼: | 浙江;33 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 驅(qū)動 拋光 裝置 | ||
1.一種主驅(qū)動拋光基盤的浮離拋光裝置,包括機座、懸浮基盤和研磨盤,所述懸浮基盤與加壓組件連接,所述研磨盤通過主驅(qū)動器繞固定中心軸線轉(zhuǎn)動,所述懸浮基盤與研磨盤相對面沿圓周方向設(shè)有楔形槽和用以放置待加工工件的加工工位,所述楔形槽中充滿研磨液,所述楔形槽和加工工位間隔設(shè)置,其特征在于:所述懸浮基盤套裝在研磨盤內(nèi)且與研磨盤內(nèi)壁有間隙,所述懸浮基盤中心有進料腔,所述懸浮基盤沿圓周方向均布徑向通孔且與進料腔相通,進料管道通過儲料蓋與懸浮基盤連接,所述研磨盤內(nèi)壁底面鋪有拋光布,所述拋光布上開有供研磨液流出的通孔,所述研磨盤底部有出料口,所述通孔與所述出料口連通。
2.如權(quán)利要求1所述的主驅(qū)動拋光基盤的浮離拋光裝置,其特征在于:所述加壓組件為砝碼,所述砝碼加壓在懸浮基盤上。
3.如權(quán)利要求1或2所述的主驅(qū)動拋光基盤的浮離拋光裝置,其特征在于:所述進料管道采用旋轉(zhuǎn)供料裝置。
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