[實用新型]一種可調節的磁控濺射靶材

有效

• 申請號: 201320283918.2
• 申請日: 2013-05-08
• 公開（公告）號: CN203333749U
• 公開（公告）日: 2013-12-11
• 發明（設計）人: 張祥;魏斌;熊紅斌
• 申請（專利權）人: 張祥
• 主分類號: C23C14/35
• 分類號: C23C14/35
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及磁控濺射系統及其附件領域，尤其涉及到一種可調節的磁控濺射靶材。

背景技術

磁控濺射應用廣泛，已經成為一種重要的薄膜沉積技術。磁控濺射時，氬離子在電場的作用下，加速轟擊陰極的靶材，濺射出的靶材原子和原子團沉積到薄膜上，完成鍍膜過程。在磁控濺射系統中，由于靶材表面上有一定的磁場分布，氬離子轟擊靶材并不是均勻的轟擊，而是在靶材上形成一個圓形的溝狀。因此，現有的圓柱狀靶材，工作一定的時間后，溝狀的部位將會被打穿，整個靶材就廢掉了，十分的浪費原材料。

實用新型內容

針對磁控濺射靶材的濺射問題，本實用新型提供一種可調節的磁控濺射靶材，能夠充分利用靶材，同時節約靶材。本實用新型所采取的技術方案為，一種可調節的磁控濺射靶材，包括靶材、固定座、螺絲、彈性布，其中，靶材為兩個長方體，固定座為正方體，且固定座的高度小于靶材的高度，固定座和靶材通過螺絲相連接；兩個靶材之間連接有彈性布。

本實用新型將靶材做成兩個長方體，大大節約了靶材，同時，濺射的部位位于靶材上，濺射一端時間后，通過螺絲能夠調節靶材之間的距離，也就調節了靶材上的濺射的位置，充分的利用靶材。

附圖說明

圖1為本實用新型的結構示意圖。

圖中：1靶材、2固定座、3螺絲、4彈性布。

具體實施方式

以下結合附圖實施例對本實用新型作進一步詳細描述。

圖1為本實用新型的結構示意圖，靶材1、固定座2、螺絲3、彈性布4，其中，靶材1為兩個長方體，固定座2為正方體，且固定座2的高度小于靶材1的高度，固定座2和靶材1通過螺絲3相連接；兩個靶材1之間連接有彈性布4。本實用新型將靶材1做成兩個長方體，大大節約了靶材1，同時，濺射的部位位于靶材1上，濺射一端時間后，通過螺絲3能夠調節靶材1之間的距離，也就調節了靶材1上的濺射的位置，充分的利用靶材1。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本發明的原理，在不脫離本發明精神和范圍的前提下，本發明還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本發明范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。