[實用新型]研磨工件用研磨墊及化學機械研磨裝置

有效

• 申請號: 201320262515.X
• 申請日: 2013-05-14
• 公開（公告）號: CN203305049U
• 公開（公告）日: 2013-11-27
• 發明（設計）人: 石井游;伊藤賢也;高橋正三;鈴木美加
• 申請（專利權）人: 株式會社荏原制作所
• 主分類號: B24B37/22
• 分類號: B24B37/22;B24B37/00;B24B37/24
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 梅高強;劉煜

技術領域

本實用新型涉及一種對金屬框體等的工件進行研磨鏡面加工用的研磨墊以及化學機械研磨(CMP)裝置。

背景技術

從外觀方面的觀點出發，需要對具有由平面和曲面組合而成的立體的表面形狀的工件實施鏡面加工。作為這種工件的例子，如有由鋁、不銹鋼等形成的金屬框體或樹脂框體。框體例如用于手機、智能電話、多功能移動終端、手掌游戲機、照相機、鐘表、音樂媒體播放器、個人計算機、汽車零件、裝飾品和醫療設備等。

在以往的研磨技術和拋光技術中，雖然可對平面進行研磨鏡面加工，但用研磨技術及拋光技術對曲面進行鏡面加工是非常困難的。雖然用手工的拋光加工能研磨曲面和平面，但尤其對于平面來說，無法實現研磨技術和拋光技術那種程度的平坦的鏡面。

實用新型內容

本實用新型是為解決上述現有問題而做成的，其目的在于提供一種研磨墊，能對具有由平面和曲面組合而成的表面形狀的工件實施鏡面加工。另外，本實用新型的目的在于提供一種能對這種工件進行鏡面研磨的化學機械研磨裝置。

用于解決課題的手段

為實現上述目的，本實用新型的第1技術方式是一種研磨工件用研磨墊，其特點是，具有：具有研磨面的彈性墊；支承所述彈性墊的變形自如的基層；以及將所述彈性墊與所述基層接合的粘接層。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述基層比所述彈性墊厚。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述基層具有所述彈性墊的厚度的至少3倍的厚度。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述基層比所述彈性墊柔軟。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述粘接層具有比所述彈性墊大的伸縮性。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述粘接層由能維持柔軟狀態的粘接劑形成。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述彈性墊由發泡聚酯形成。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述基層由聚氨酯海綿形成。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述粘接層由丙烯類的粘接劑形成。

本實用新型的第2技術方式是一種研磨工件用的化學機械研磨裝置，其特點是具有：上述研磨墊；支承所述研磨墊的可旋轉的研磨臺；對所述工件進行保持、將所述工件按壓在所述研磨墊上的托架；使所述托架繞該托架的軸心旋轉的旋轉機構；以及將研磨液供給到所述研磨墊上的研磨液供給機構。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述托架具有擺動機構，該擺動機構使所述工件以通過該工件的被研磨面近旁的規定的旋轉軸線為中心擺動。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，還具有提升機構，該提升機構將向上的力賦予所述托架，從而調整所述工件的研磨壓力。

本實用新型的第3技術方式是一種化學機械研磨裝置，其特點是，具有：對研磨墊進行支承的可旋轉的研磨臺；將所述工件按壓到所述研磨墊上的托架；使所述托架繞該托架的軸心旋轉的旋轉機構；以及將研磨液供給到所述研磨墊上的研磨液供給機構，所述托架具有使所述工件擺動的擺動機構，所述擺動機構具有：對所述工件進行保持的工件保持部；轉動促動器，在使所述工件與所述研磨墊接觸的狀態下，該轉動促動器使所述工件保持部繞規定的回旋軸線以規定角度擺動。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述擺動機構還具有將所述工件保持部與所述轉動促動器連接起來的至少一個旋轉連接機構，所述旋轉連接機構構成為，可變更所述工件保持部相對于所述轉動促動器的相對角度。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述旋轉連接機構將所述工件保持部支承成繞與所述回旋軸線平行的旋轉軸線旋轉自如。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述至少一個旋轉連接機構包括第1旋轉連接機構和第2旋轉連接機構，所述第1旋轉連接機構將所述工件保持部與所述第2旋轉連接機構連接，并將所述工件保持部支承成繞與所述回旋軸線平行的第1旋轉軸線旋轉自如，所述第2旋轉連接機構將所述第1旋轉連接機構與所述轉動促動器連接，并將所述第1旋轉連接機構支承成繞與所述回旋軸線及所述第1旋轉軸線平行的第2旋轉軸線旋轉自如。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述工件具有應研磨的第1面、第2面以及將所述第1面與所述第2面連接起來的彎曲面，所述規定角度是所述第1面與所述第2面所構成的角度。

本實用新型的較佳技術方式的特點是，所述托架還具有沿所述工件的被研磨面的緣部將該工件覆蓋的罩蓋部件。