[實用新型]一種氣體反應器內壓強控制裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201320238584.7 | 申請日: | 2013-05-06 |
| 公開(公告)號: | CN203238325U | 公開(公告)日: | 2013-10-16 |
| 發(fā)明(設計)人: | 袁方園 | 申請(專利權)人: | 袁方園 |
| 主分類號: | C23C14/54 | 分類號: | C23C14/54;C23C16/52 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 262700 山*** | 國省代碼: | 山東;37 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 氣體 反應器 壓強 控制 裝置 | ||
技術領域
本實用新型涉及薄膜制備設備領域,具體地來說為用于制備薄膜的氣體反應器內壓強控制裝置。
背景技術
在薄膜制備領域,無論采用那種設備,氣體壓強以及氣體流量在其中起到重要的作用,對壓強和流量的控制往往采用手動調節(jié)進氣閥門的大小,觀察進氣閥門的流量的大小來確定進氣流量,通過調節(jié)出氣閥門的大小來控制壓強的大小,這種采用手動調節(jié)的方式,往往由于流量的不好控制而帶來麻煩,常需要花費很多的時間對流量和壓強進行調節(jié)了,對于調節(jié)好的流量和壓強,隨著氣體反應的進行,壓強發(fā)生變化,還要重新進行調節(jié),實驗人員為了防止壓強的變化,經常需要長時間觀察,而不能離開。
實用新型內容
針對現有技術中存在的上述不足之處,本實用新型要解決的技術問題在于提供一種氣體反應器內壓強控制裝置,解決手動調節(jié)帶來的不便。
本實用新型采用如下的技術方案:
一種氣體反應器內壓強控制裝置,包括處理器、輸入按鍵、流量傳感器、流量控制器以及與流量控制器連接的進氣閥門,其中流量傳感器與處理器的輸入端連接,流量控制器與處理器的輸出端連接,處理器的輸入端還連接有輸入按鍵。
???所述處理器的輸入端還連接有氣體壓強傳感器。
???所述處理器的輸出端連接有顯示屏。
?本實用新型具有如下的優(yōu)點和有益效果:
本實用新型通過采用輸入預設壓強和流量的方式,處理器通過輸入的壓強和流量值控制進氣閥門和出氣閥門的進出氣大小,達到控制反應壓強和流量的目的,具有結構簡單,操控性強,全自動調節(jié)等優(yōu)點。適用于各種物理、化學氣相沉積以及磁控濺射等設備中。
附圖說明
圖1為本實用新型的結構框圖。
具體實施方式
?????下面結合實施例和附圖對本實用新型進行詳細地說明:
?????實施例
如圖1所示,一種氣體反應器內壓強控制裝置,包括處理器、輸入按鍵、流量傳感器I、流量傳感器II、流量傳感器III、流量控制器以及與流量控制器連接的進氣閥門I、進氣閥門II、進氣閥門III,其中流量傳感器I、流量傳感器II、流量傳感器III與處理器的輸入端連接,流量控制器與處理器的輸出端連接,處理器的輸入端還連接有輸入按鍵。處理器的輸入端還連接有氣體壓強傳感器,用于將氣體的壓強傳遞給處理器。處理器的輸出端連接有顯示屏,顯示屏用于顯示是輸入的所需流量和所需壓強。
工作時,通過輸入按鍵將所需要的流量和壓強輸入至處理器,處理器接受流量傳感器傳遞的流量和氣體壓強傳感器傳遞的實際壓強,并和輸入的值進行比較,如相同,則不發(fā)出指令,如不相同,則向流量控制器發(fā)出指令,流量控制器在對相應的進氣閥門或出氣閥門進行調小和調大的處理。進而達到控制流量和壓強的目的。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于袁方園,未經袁方園許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201320238584.7/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:熱絲化學氣相沉積裝置
- 下一篇:脫氧劑澆鑄模具
- 同類專利
- 專利分類
C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理





