[實(shí)用新型]分散盤(pán)、包括該分散盤(pán)的物料分散裝置以及反應(yīng)設(shè)備

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201320222227.1
• 申請(qǐng)日: 2013-04-27
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN203227445U
• 公開(kāi)（公告）日: 2013-10-09
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 裴亞利;賈德榮;李寶德;操應(yīng)軍
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 北京航天賽德科技發(fā)展有限公司
• 主分類號(hào): B01F7/26
• 分類號(hào): B01F7/26;B01F15/00;B01J19/18
• 代理公司: 北京北翔知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11285
• 代理人: 鐘守期;鄭建暉

1.一種分散盤(pán)（14），其特征在于，包括：

一個(gè)靜盤(pán)（14a），其于盤(pán)的中間或靠近中間的位置有一個(gè)或多個(gè)通孔，從所述靜盤(pán)的下表面突出延伸有均勻間隔開(kāi)的多個(gè)齒；以及

一個(gè)動(dòng)盤(pán)（14b），所述動(dòng)盤(pán)被置于所述靜盤(pán)的下方，從所述動(dòng)盤(pán)的上表面突出延伸有均勻間隔開(kāi)的多個(gè)齒，

其中，所述靜盤(pán)（14a）的多個(gè)齒和所述動(dòng)盤(pán)（14b）的多個(gè)齒被布置為，所述動(dòng)盤(pán)（14b）的多個(gè)齒適于配合在所述靜盤(pán)（14a）的相應(yīng)的齒與齒之間的間隔中。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分散盤(pán)，其特征在于，所述靜盤(pán)（14a）的多個(gè)齒呈環(huán)狀分布在所述靜盤(pán)的下表面的圓周方向，以及所述動(dòng)盤(pán)（14b）的多個(gè)齒呈環(huán)狀分布在所述動(dòng)盤(pán)的上表面的圓周方向。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的分散盤(pán)，其特征在于，在所述靜盤(pán)（14a）和/或動(dòng)盤(pán)（14b）中，布置在相同環(huán)中的一個(gè)齒與相鄰齒之間的距離基本等于該一個(gè)齒沿該環(huán)的方向的長(zhǎng)度。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的分散盤(pán)，其特征在于，在所述靜盤(pán)（14a）和/或動(dòng)盤(pán)（14b）中，布置在不同環(huán)中的一個(gè)齒與相鄰齒對(duì)齊排列在所述靜盤(pán)或動(dòng)盤(pán)的徑向方向，并且布置在不同環(huán)中的該一個(gè)齒與相鄰齒之間的距離大于該一個(gè)齒沿所述靜盤(pán)或動(dòng)盤(pán)的徑向方向的寬度。

5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的分散盤(pán)，其特征在于，所述靜盤(pán)（14a）的多個(gè)齒和/或所述動(dòng)盤(pán)（14b）的多個(gè)齒為矩形直齒或棱錐形齒。

6.根據(jù)權(quán)利要求1-5之一所述的分散盤(pán)，其特征在于，所述靜盤(pán)（14a）的下表面和所述動(dòng)盤(pán)（14b）的多個(gè)齒之間存在間隙，所述動(dòng)盤(pán)（14b）的上表面和所述靜盤(pán)（14a）的多個(gè)齒之間存在間隙，以及在所述動(dòng)盤(pán)（14b）的齒和相鄰的所述靜盤(pán)（14a）的齒之間也存在間隙。

7.根據(jù)權(quán)利要求1-5之一所述的分散盤(pán)，其特征在于，所述靜盤(pán)（14a）和/或所述動(dòng)盤(pán)（14b）的最外側(cè)周緣具有均勻分布的開(kāi)口。

8.根據(jù)權(quán)利要求1-5之一所述的分散盤(pán)，其特征在于，所述靜盤(pán)（14a）的直徑大于所述動(dòng)盤(pán)（14b）的直徑。

9.一種物料分散裝置（11），其特征在于，包括：

上述權(quán)利要求1-8之一所述的分散盤(pán)（14）；

一個(gè)分散電機(jī)（12）；

一個(gè)聯(lián)桿，該聯(lián)桿的上端聯(lián)接至所述分散電機(jī)（12）,該聯(lián)桿的下端穿過(guò)所述靜盤(pán)的通孔聯(lián)接至所述動(dòng)盤(pán)（14b）;

一個(gè)或多個(gè)進(jìn)料口（13），布置在所述分散盤(pán)的上方，并與靜盤(pán)的通孔連通；

其中所述分散電機(jī)的外側(cè)壁向下延伸接合至所述靜盤(pán)，以形成一個(gè)腔室，所述聯(lián)桿布置在該腔室中，所述一個(gè)或多個(gè)進(jìn)料口（13）從該腔室的外側(cè)延伸進(jìn)入該腔室中。

10.一種反應(yīng)設(shè)備（10），其特征在于，包括：

權(quán)利要求9所述的物料分散裝置（11）；

該物料分散裝置（11）還包括圍繞分散盤(pán)的物料收集設(shè)備，以收集分散盤(pán)排出的物料，該物料收集設(shè)備有一個(gè)或多個(gè)出口；

一個(gè)反應(yīng)釜體；

一個(gè)攪拌電機(jī)（15），安裝在所述反應(yīng)釜體的頂部；

一個(gè)攪拌槳（17），該攪拌槳聯(lián)接至所述攪拌電機(jī)，并且延伸進(jìn)入所述反應(yīng)釜體內(nèi)部；

其中所述物料收集設(shè)備的一個(gè)或多個(gè)出口被設(shè)置在所述反應(yīng)釜體的內(nèi)側(cè)或外側(cè)；

所述物料分散裝置的分散電機(jī)安裝在所述反應(yīng)釜體的頂部，與所述攪拌電機(jī)相距一個(gè)預(yù)定距離。