[實用新型]一種生長碲化鉍納米薄膜的熱壁外延裝置

有效

• 申請號: 201320218528.7
• 申請日: 2013-04-26
• 公開（公告）號: CN203320181U
• 公開（公告）日: 2013-12-04
• 發明（設計）人: 郭建華;鄧惠勇;邱鋒;孫艷;李小南;俞國林;戴寧
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海技術物理研究所
• 主分類號: C30B23/02
• 分類號: C30B23/02;C30B29/46
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司 31213
• 代理人: 郭英

1.一種生長碲化鉍納米薄膜的熱壁外延裝置，該裝置包括真空腔體（1）、生長爐（2）、氣氛補償爐（3）、襯底支架（4）、不銹鋼擋板（5）、生長石英管（6）和帶孔石英擋板（7），其特征在于：

所述的真空腔體（1）包括N₂進氣口（11）、N₂出氣口（12）和連接抽真空系統的排氣口（13）；所述的生長爐（2）置于真空腔體（1）內部，生長爐（2）的補償源爐體（21）、生長源爐體（22）和熱壁爐體（23）從下往上依次豎直軸心排列，補償源爐體（21）和生長源爐體（22）之間用陶瓷片（24）隔熱；所述的氣氛補償爐（3）為單溫區爐，與生長爐（2）沿真空腔體（1）中心軸對稱分布；所述的襯底支架（4）在生長爐（2）和氣氛補償爐（3）爐口上方，包括上下交疊的盤狀加熱絲（41）、均熱盤（42）和襯底托（43），通過真空腔體（1）外面的電機（44）控制其上下和旋轉運動，其中所述的均熱盤（42）和襯底托（43）的材料為鉬；所述的不銹鋼擋板（5）放置于生長爐（2）和氣氛補償爐（3）的爐口正上方，通過磁力傳動，手動移動；所述的生長石英管（6）放置于生長爐（2）中，由直徑不同的兩段石英管嵌套而成，分別放入生長源和補償源，放補償源的石英管（61）的管口位置比放生長源的石英管（62）底部高50mm，該生長石英管（6）管口鑲嵌一個石英環（63），支撐在生長爐（2）上，生長石英管（6）內部距離管口50mm的地方也有一個石英環（64）用來支撐帶孔石英擋板（7）；所述的帶孔石英擋板（7）放置于生長石英管（6）內熱壁爐體（23）對應的位置，在帶孔石英擋板（7）上面均勻地開一定數目的小孔。