[實用新型]一種防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置

有效

• 申請號: 201320200911.X
• 申請日: 2013-04-21
• 公開（公告）號: CN203164038U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發明（設計）人: 何春雷;李金鐘;王桐;高建輝
• 申請（專利權）人: 青島眾瑞智能儀器有限公司
• 主分類號: G01N1/34
• 分類號: G01N1/34;G01N15/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種過濾技術，更具體的說，特別涉及一種防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置。?

背景技術

光學法檢測氣溶膠濃度，主要有ATI的TDA-2H和TDA-2I型氣溶膠光度計，且該儀器在去除大顆粒污染方面采用較密的不銹鋼濾網的方法。檢測高效過濾器泄露率的方法主要是在高效過濾器前端發生中值粒徑在0.6微米的多分散相氣溶膠，通過上游檢測發生氣溶膠的濃度，再在下游檢測通過高效過濾器的氣溶膠濃度，來計算高效過濾器的過濾效率。光學腔檢測的粒子直徑分布在亞微米級。由于檢測進氣口必須為開放式結構，所以光學腔容易進入微米級或更大級別的顆粒物或雜質，且大顆粒物在光學腔中隨氣流不斷震蕩，難以隨氣流排出，影響光學檢測的準確性。而現有技術的解決方法是在進氣管路中安裝過濾網，過濾網只能去除較大的顆粒物或者雜質，若要去除微米級顆粒需要較細的濾網，濾網阻力較大容易堵塞，且待檢測顆粒損失嚴重。

發明內容

本實用新型的目的是針對現有技術因存在光學腔容易進入大顆粒雜質進而影響光學檢測的準確性的技術問題，提供一種防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置。

本實用新型的目的是通過以下技術方案來實現的：

一種防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其安裝于光學檢測腔的前端，該光學檢測裝置包括激光光源發生裝置、散射腔、大顆粒收集裝置、散射光檢測裝置以及主光束吸收裝置，所述激光光源發生裝置和主光束吸收裝置分別安裝于散射腔的二端，所述大顆粒收集裝置和散射光檢測裝置安裝于散射腔的一側，且所述大顆粒收集裝置位于所述激光光源發生裝置一端。

優選的，所述散射腔包括進光光闌、散射腔體、出氣氣嘴和消光光闌，所述進光光闌安裝于位于激光光源發生裝置一側的散射腔上，所述出氣氣嘴和消光光闌安裝于位于主光束吸收裝置一側的散射腔體上。

優選的，所述激光光源發生裝置包括激光器、光源固定板和光源調節座，所述光源調節座安裝于散射腔體一端，所述激光器通過光源固定板固定于光源調節座上。

優選的，所述大顆粒收集裝置包括大顆粒收集器、進氣氣嘴和大顆粒收集器蓋，所述大顆粒收集器可連通的安裝于散射腔體的一側，所述大顆粒收集器蓋安裝于大顆粒收集器上，所述進氣氣嘴安裝于大顆粒收集器蓋上。

優選的，所述散射光檢測裝置包括石英鏡片、光電倍增管管座、光電倍增管壓蓋和光電倍增管，所述光電倍增管管座可連通的安裝于散射腔體的一側，所述石英鏡片安裝于光電倍增管管座與散射腔體的連通處，所述光電倍增管位于光電倍增管管座內，所述光電倍增管壓蓋安裝于光電倍增管管座上。

優選的，所述光電倍增管的軸線與所述激光光源發生裝置發出的激光方向相互垂直。

優選的，所述主光束吸收裝置包括光陷阱和光陷阱座，所述光陷阱座安裝于位于消光光闌一側的的散射腔體上，所述光陷阱安裝于光陷阱座上。

本實用新型具有如下有益效果：

1、采用空氣動力學原理，簡單有效的防止了大顆粒雜質進入光學檢測腔，避免了大顆粒物在光學腔中對光束的干擾，大大提高光學檢測腔信號的準確性，提高信噪比進而提高檢測精度。

2、與過濾網相比，利用空氣動力學原理實現的去除大顆粒裝置能夠保證空氣在流動過程中沒有障礙，沒有阻力，更能保留被檢測氣體的原始性。

3、避免光學檢測腔受到污染，延長光學檢測腔的使用壽命，且大顆粒去除器拆裝方便，降低維護成本。

4、本實用新型的裝置加工工藝簡單，成本低。

附圖說明

圖1為本實用新型所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置的結構圖；

圖2為本實用新型所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的方法流程圖。

附圖標記說明：

1、激光器，2、光源固定板，3、光源調節座，4、大顆粒收集器，5、進氣氣嘴，6、大顆粒收集器蓋，7、進光光闌，8、散射腔體，9、激光束，10、消光光闌，11、光陷阱，12、光陷阱座，13、出氣氣嘴，14、石英鏡片，15、光電倍增管管座，16、光電倍增管壓蓋，17、光電倍增管。?

具體實施方式

下面結合附圖和具體實施例來對本實用新型做進一步詳細的說明。