[實用新型]一種防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置

有效

• 申請號: 201320200911.X
• 申請日: 2013-04-21
• 公開（公告）號: CN203164038U
• 公開（公告）日: 2013-08-28
• 發明（設計）人: 何春雷;李金鐘;王桐;高建輝
• 申請（專利權）人: 青島眾瑞智能儀器有限公司
• 主分類號: G01N1/34
• 分類號: G01N1/34;G01N15/06
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其安裝于光學檢測腔的前端，其特征在于：該光學檢測裝置包括大顆粒收集裝置、散射腔、激光光源發生裝置、主光束吸收裝置，以及散射光檢測裝置，所述激光光源發生裝置和主光束吸收裝置分別安裝于散射腔的兩端，所述大顆粒收集裝置和散射光檢測裝置安裝于散射腔的一側，且所述大顆粒收集裝置位于所述激光光源發生裝置一端。

2.根據權利要求1所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其特征在于：所述大顆粒收集裝置包括大顆粒收集器（4）、進氣氣嘴（5）和大顆粒收集器蓋（6），所述大顆粒收集器（4）可連通的安裝于散射腔的一側，所述大顆粒收集器蓋（6）安裝于大顆粒收集器（4）上，所述進氣氣嘴（5）安裝于大顆粒收集器蓋（6）上。

3.根據權利要求1所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其特征在于：所述散射腔包括進光光闌（7）、散射腔體（8）、出氣氣嘴（13）和消光光闌（10），所述進光光闌（7）安裝于位于激光光源發生裝置一側的散射腔體（8）上，所述出氣氣嘴（13）和消光光闌（10）安裝于位于主光束吸收裝置一側的散射腔體（8）上。

4.根據權利要求3所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其特征在于：所述激光光源發生裝置包括激光器（1）、光源固定板（2）和光源調節座（3），所述光源調節座（3）安裝于散射腔體（8）一端，所述激光器（1）通過光源固定板（2）固定于光源調節座（3）上。

5.根據權利要求3所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其特征在于：所述主光束吸收裝置包括光陷阱（11）和光陷阱座（12），所述光陷阱座（12）安裝于位于消光光闌（10）一側的的散射腔體（8）上，所述光陷阱（11）安裝于光陷阱座（12）上。

6.根據權利要求3所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其特征在于：所述散射光檢測裝置包括石英鏡片（14）、光電倍增管管座（15）、光電倍增管壓蓋（16）和光電倍增管（17），所述光電倍增管管座（15）可連通的安裝于散射腔體（8）的一側，所述石英鏡片（14）安裝于光電倍增管管座（15）與散射腔體（8）的連通處，所述光電倍增管（17）位于光電倍增管管座（15）內，所述光電倍增管壓蓋（16）安裝于光電倍增管管座（15）上。

7.根據權利要求6所述的防止大顆粒雜質進入光學檢測腔的裝置，其特征在于：所述光電倍增管（17）的軸線與所述激光光源發生裝置發出的激光方向相互垂直。