[實用新型]一種減少鍍膜后形變的鍍膜基板有效
| 申請號: | 201320191922.6 | 申請日: | 2013-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN203212625U | 公開(公告)日: | 2013-09-25 |
| 發明(設計)人: | 陸文;李京輝 | 申請(專利權)人: | 北極光電(深圳)有限公司 |
| 主分類號: | C23C14/00 | 分類號: | C23C14/00 |
| 代理公司: | 深圳市千納專利代理有限公司 44218 | 代理人: | 黃良寶 |
| 地址: | 518000 廣東省深*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 減少 鍍膜 形變 | ||
技術領域
本實用新型涉及到光學薄膜的制造技術領域,具體涉及到光學薄膜的鍍膜基板結構改進方面。
背景技術
如圖1和圖2所示,光學薄膜的制造,通常的方式是在一定厚度和尺寸的平面基板1(通常是各類玻璃、陶瓷等)上按預先設計的厚度,采用熱蒸發或者濺射等方式,交替沉積兩種(或兩種以上)不同折射率的鍍薄膜材料層2,以實現對不同波長不同偏振態的光波選擇性的透過、反射或者吸收。
????現有的基板1,在鍍膜后,因鍍膜材料層2固有的切向應力存在,使得薄膜在切向上整體表現出壓應力或者張應力(鍍膜材料層2有向外擴張或者向內收縮的趨勢),從而導致鍍膜后的基板1整體形變。這個形變會增加后續加工的難度,同時對鍍膜材料層2在基板上的附著力有不利影響。
發明內容
綜上所述,本實用新型的目的在于解決光學薄膜制造時基板在鍍膜后出整體形變,影響后續加工及影響膜材料層附著力等技術不足,而提出一種減少鍍膜后形變的鍍膜基板。
為解決本實用新型所提出的技術問題,采用的技術方案為:一種減少鍍膜后形變的鍍膜基板,包括有基板本體;其特征在于:在所述的基板本體上設有切槽。
所述基板本體上的切槽為若干條平行排列的條形凹槽。
所述基板本體為玻璃板或陶瓷板。
本實用新型的有益效果為:本實用新型由于對鍍膜基板表面進行切槽處理,減少或基本避免了鍍膜后的整體形變的問題,便于后續加工,同時有利于鍍膜材料層對基板本體的附著力。
附圖說明
圖1為現有的基板在鍍膜前的結構示意圖;
圖2為現有的基板在鍍膜后的結構示意圖;
圖3為本實用新型在鍍膜前的結構示意圖;
圖4為本實用新型在鍍膜后的結構示意圖。
具體實施例
以下結合附圖和本實用新型優選的具體實施例對本實用新型的結構作進一步地說明。
參照圖3和圖4中所示,本實用新型采用在所述基板本體1上進行表面切槽處理,在基板本體1的表面形成若干條平行排列的條形凹槽;條形凹槽的深度和間距,依據基板本體1的尺寸、材料和薄膜設計有所不同。切槽為
通過鍍膜基板表面切槽處理,減少鍍膜后因膜層內應力造成的基板形變問題。如圖二所示,在鍍膜前對平面基板的表面進行切槽處理。槽的深度和間距,依據基板的尺寸、材料和鍍膜材料層2的不同而設計的不同深度和間距。深度越大,抗形變性能越大;間距越小,抗形變性能越大。
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