[實用新型]一種磁控濺射靶罩有效
| 申請號： | 201320172332.9 | 申請日： | 2013-04-09 |
| 公開（公告）號： | CN203187747U | 公開（公告）日： | 2013-09-11 |
| 發明（設計）人： | 孟彬;孔明;劉肖肖;徐定能 | 申請（專利權）人： | 昆明理工大學 |
| 主分類號： | C23C14/35 | 分類號： | C23C14/35 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 650093 云*** | 國省代碼： | 云南;53 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 磁控濺射 | ||
【權利要求書】：
1.一種磁控濺射靶罩，其特征在于：在磁控濺射靶（4）上安裝有可調節高度的磁控濺射靶罩（2），磁控濺射靶罩（2）的上端開口，開口端對準沉積基片（1）。
2.根據權利要求1所述的磁控濺射靶罩，其特征在于：所述磁控濺射靶罩（2）通過螺紋與磁控濺射靶（4）連接，磁控濺射靶罩（2）的上端與沉積基片（1）的距離為1～2mm。
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