[實用新型]一種超導磁體裝置及磁共振成像設備有效
| 申請號: | 201320145540.X | 申請日: | 2013-03-16 |
| 公開(公告)號: | CN203118700U | 公開(公告)日: | 2013-08-07 |
| 發明(設計)人: | 李玉花 | 申請(專利權)人: | 李玉花 |
| 主分類號: | H01F6/04 | 分類號: | H01F6/04;G01R33/3815 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 25500*** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 超導 磁體 裝置 磁共振 成像 設備 | ||
1.一種超導磁體裝置及磁共振成像設備,結構中包括超導線圈(1)和低溫容器(2),低溫容器(2)內充有第一冷卻劑(3),超導線圈(1)設置在第一冷卻劑(3)內,其特征在于:
在所述低溫容器(2)外側設置有真空空腔(4),在真空空腔(4)外側設置有保溫腔(5),保溫腔(5)內充有第二冷卻劑(6);所述超導線圈(1)采用高溫超導鉍系帶材料制成,所述第一冷卻劑(3)的溫度低于第二冷卻劑(6)的溫度,第二冷卻劑(6)的溫度低于所述超導線圈(1)的臨界溫度。
2.根據權利要求1所述的超導磁體裝置及磁共振成像設備,其特征在于:
所述第一冷卻劑(3)采用液氦,所述第二冷卻劑(6)采用液氮。
3.根據權利要求1所述的超導磁體裝置及磁共振成像設備,其特征在于:
所述真空空腔(4)內設置有熱輻射屏蔽件(7)。
4.一種磁共振成像設備及磁共振成像設備,其特征在于:
包括權利1至3中任一項所述的超導磁體裝置及磁共振成像設備。
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