[實用新型]一種超導磁體裝置及磁共振成像設備

有效

• 申請號: 201320145540.X
• 申請日: 2013-03-16
• 公開（公告）號: CN203118700U
• 公開（公告）日: 2013-08-07
• 發明（設計）人: 李玉花
• 申請（專利權）人: 李玉花
• 主分類號: H01F6/04
• 分類號: H01F6/04;G01R33/3815
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

技術領域

本實用新型涉及一種醫療器具，尤其是一種超導磁體裝置及磁共振成像設備。

背景技術

磁共振成像是一種使用磁場及射頻脈沖進行的特殊檢查，具有安全、準確、無創傷、對人體無害的優點。磁共振成像設備需要使用一個主磁體來產生強大的靜態磁場。

現階段主磁體分為三類：普通電磁體、永磁體和超導磁體。普通電磁體是利用較強的直流電流通過線圈產生磁場，耗電量大，一般需要通電數小時后磁場強度才能達到穩定狀態。永磁體經一次充磁后，可長期保持磁性，但磁場強度較低。超導磁體是目前應用比較多的一種主磁體，在超導狀態下，電流流過導體時沒有電阻損耗，從而不會使導體升溫。

同樣直徑的導線在超導狀態下可以通過更大電流而不損壞。用超導材料制成的線圈通以強大電流可產生強大磁場，而且在外加電流切斷后，超導線圈中的電流仍保持不變，因而超導磁場極為穩定。

使用超導磁體時，需要將超導線圈放入低溫環境中以使其保持超導狀態。一旦超導線圈的溫度高于臨界溫度，便會產生“失超”現象，使得線圈溫度急劇升高，磁場衰弱嚴重，設備無法正常使用。

發明內容

本實用新型要解決的技術問題是提供一種超導磁體裝置及磁共振成像設備，能夠解決現有技術的不足，通過使用高溫超導鉍系帶材料制作超導線圈，并設置兩層冷卻劑進行保溫，最大限度的保證了超導線圈處于臨界溫度以下，避免“失超”現象的發生。

為解決上述技術問題，本實用新型所采取的技術方案如下。

一種超導磁體裝置，結構中包括超導線圈和低溫容器，低溫容器內充有第一冷卻劑，超導線圈設置在第一冷卻劑內，在所述低溫容器外側設置有真空空腔，在真空空腔外側設置有保溫腔，保溫腔內充有第二冷卻劑；所述超導線圈采用高溫超導鉍系帶材料制成，所述第一冷卻劑的溫度低于第二冷卻劑的溫度，第二冷卻劑的溫度低于所述超導線圈的臨界溫度。

作為優選，所述第一冷卻劑采用液氦，所述第二冷卻劑采用液氮。

作為優選，所述真空空腔內設置有熱輻射屏蔽件。

此外，本使用新型還提供一種磁共振成像設備，包括如上所述的超導磁體裝置。

采用上述技術方案所帶來的有益效果在于：

本實用新型中的超導線圈采用高溫超導鉍系帶材料制成，其臨界溫度高于液氮的溫度。將超導線圈放置于液氦中，可進一步降低其溫度，保證其一直處于超導狀態。在低溫容器外設置真空空腔，在真空空腔內設置熱輻射屏蔽件，可減少低溫容器與外界的熱量交換，保持低溫容器的溫度。真空空腔外設置的保溫腔內充有液氮，使得真空空腔內外兩側的溫度都低于超導線圈的臨界溫度，保證了在真空空腔隔熱作用降低時，也不會由于外界熱量傳入低溫容器，導致超導線圈產生“失超”現象。

附圖說明

圖1是本實用新型一個具體實施方式的示意圖；

圖中：1、超導線圈；2、低溫容器；3、第一冷卻劑；4、真空空腔；5、保溫腔；6、第二冷卻劑；7、熱輻射屏蔽件。

具體實施方式

參照圖1，本實用新型的結構中包括超導線圈1和低溫容器2，低溫容器2內充有第一冷卻劑3，超導線圈1設置在第一冷卻劑3內，在所述低溫容器2外側設置有真空空腔4，在真空空腔4外側設置有保溫腔5，保溫腔5內充有第二冷卻劑6；所述超導線圈1采用高溫超導鉍系帶材料制成，所述第一冷卻劑3的溫度低于第二冷卻劑6的溫度，第二冷卻劑6的溫度低于所述超導線圈1的臨界溫度。

值得注意的是，所述第一冷卻劑3采用液氦，所述第二冷卻劑6采用液氮。

值得注意的是，所述真空空腔4內設置有熱輻射屏蔽件7。

此外，本實用新型還提供了一種磁共振成像設備，包括如上所述的超導磁體裝置。

本實用新型的工作原理是：

本實用新型中的超導線圈1采用高溫超導鉍系帶材料制成，其臨界溫度高于液氮的溫度。將超導線圈1放置于液氦中，可進一步降低其溫度，保證其一直處于超導狀態。在低溫容器2外設置真空空腔4，在真空空腔4內設置熱輻射屏蔽件7，可減少低溫容器2與外界的熱量交換，保持低溫容器2的溫度。

真空空腔4外設置的保溫腔5內充有液氮，使得真空空腔4內外兩側的溫度都低于超導線圈1的臨界溫度，保證了在真空空腔4隔熱作用降低時，也不會由于外界熱量傳入低溫容器2，導致超導線圈1產生“失超”現象。

以上顯示和描述了本實用新型的基本原理和主要特征和本實用新型的優點。本行業的技術人員應該了解，本實用新型不受上述實施例的限制，上述實施例和說明書中描述的只是說明本實用新型的原理，在不脫離本實用新型精神和范圍的前提下，本實用新型還會有各種變化和改進，這些變化和改進都落入要求保護的本實用新型范圍內。本實用新型要求保護范圍由所附的權利要求書及其等效物界定。